[发明专利]一种低雾度聚烯烃胶膜及其制备方法

权利要求书

1.一种低雾度聚烯烃胶膜，其特征在于：以质量份计，包括如下组分：

其中：

所述接枝聚乙烯树脂通过以下方法制得：将0.2-0.5份引发剂溶解于0.05-2.0份交联剂中，搅拌均匀后加入100份聚乙烯树脂，搅拌均匀后进行熔融挤出造粒，即可得到接枝聚乙烯树脂；

所述聚烯烃树脂选自聚乙烯、聚丙烯、乙烯-α烯烃共聚物中的一种或几种；

所述助剂包含抗氧剂和光稳定剂；

所述母粒，以质量份计，包括如下组分：

其中，所述纳米金属氧化物选自WO₃、ZnO、TiO₂和Al₂O₃中的一种或几种，所述纳米金属氧化物的粒径小于80nm；所述纳米二氧化硅的粒径小于30nm；所述聚烯烃树脂选自聚乙烯、聚丙烯、乙烯-α烯烃共聚物中的一种或几种。

2.根据权利要求1所述的低雾度聚烯烃胶膜，其特征在于：所述交联剂为乙烯基三甲氧基硅烷或乙烯基三乙氧基硅烷。

3.根据权利要求1所述的低雾度聚烯烃胶膜，其特征在于：所述分散剂选自聚丙烯酰胺、九水合硅酸钠、聚丙烯酸钠、硬脂酸钠、硬脂酸钙、三聚磷酸钠、六偏磷酸钠和焦磷酸钠中的一种或几种。

4.根据权利要求3所述的低雾度聚烯烃胶膜，其特征在于：所述分散剂为质量比为1:2的聚丙烯酰胺和九水合硅酸钠，且添加顺序为：先添加聚丙烯酰胺后添加九水合硅酸钠。

5.根据权利要求1所述的低雾度聚烯烃胶膜，其特征在于：所述硅烷偶联剂选自γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-氯丙基三甲氧基硅烷和γ-巯丙基三甲氧基硅烷中的一种或几种。

6.根据权利要求1所述的低雾度聚烯烃胶膜，其特征在于：所述抗氧剂选自四[β-(3’,5’-二叔丁基-4’-羟基苯基)丙酸]十八烷基醇酯、双十八烷基季戊四醇二亚磷酸酯、三(2,4-二叔丁基苯基)亚磷酸酯、β-(4-羟基-3,5-二叔丁基苯基)丙酸正十八碳醇酯中的一种或几种。

7.根据权利要求1所述的低雾度聚烯烃胶膜，其特征在于：所述光稳定剂选自聚{[6-[(1,1,3,3-四甲基丁基)氨基]]-1,3,5-三嗪-2,4-双[(2,2,6,6,-四甲基-哌啶基)亚氨基]-1,6-己二撑-[(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亚氨基]}与聚丁二酸(4-羟基-2,2,6,6-四甲基-1-哌啶乙醇)酯的复合物、双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、丁二酸与(4-羟基-2,2,6,6-四甲基-1-哌啶醇)的聚合物以及2,2,6,6-四甲基-4-哌啶硬脂酸酯中的一种或几种。

8.根据权利要求1所述的低雾度聚烯烃胶膜，其特征在于：先制备母粒，然后按照配比制备低雾度聚烯烃胶膜；

所述母粒的制备方法如下：

(1)将纳米金属氧化物加入分散剂中，分散均匀后，浓缩干燥，研磨过筛，筛选粒径小于80nm的粉体，然后与油酸混合均匀，得到油酸处理的纳米金属氧化物粉体；

(2)将纳米二氧化硅加入分散剂中进行表面处理，分散均匀后，浓缩干燥；研磨过筛，筛选粒径为小于20nm的纳米氧化硅粉体；

(3)将上述油酸处理的纳米金属氧化物粉体、纳米二氧化硅粉体、硅烷偶联剂混合均匀，然后加入聚烯烃树脂，混合均匀之后，加入挤出机进行反应挤出，挤出后进行冷却，造粒，即可得到母粒。

9.采用权利要求1至8中任意一种低雾度聚烯烃胶膜制得的夹层玻璃。

10.一种低雾度聚烯烃胶膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)接枝聚乙烯树脂的制备：

将0.2-0.5份引发剂溶解于0.05-2.0份交联剂中，搅拌均匀后加入100份聚乙烯树脂，搅拌均匀后进行熔融挤出造粒，即可得到接枝聚乙烯树脂；

(2)母粒的制备

(a)将纳米金属氧化物加入分散剂中，分散均匀后，浓缩干燥，研磨过筛，筛选粒径小于80nm的粉体，然后与油酸混合均匀，得到油酸处理的纳米金属氧化物粉体；

(b)将纳米二氧化硅加入分散剂中进行表面处理，分散均匀后，浓缩干燥；研磨过筛，筛选粒径为小于20nm的纳米氧化硅粉体；

(c)将上述油酸处理得纳米金属氧化物粉体、纳米二氧化硅粉体、硅烷偶联剂混合均匀，然后加入聚烯烃树脂，混合均匀之后，加入挤出机进行反应挤出，挤出后进行冷却，造粒，即可得到母粒；

(3)低雾度聚烯烃胶膜的制备：

按权利要求1的配比将接枝聚乙烯树脂、聚烯烃树脂、母粒、助剂混合均匀，随后加入单螺杆挤出机中进行反应挤出，最后通过挤出、流延、冷却、裁切、收卷工序，即可得到所述低雾度聚烯烃胶膜。