[发明专利]一种二维AMR开关传感芯片制备方法在审

专利信息
申请号: 201811550796.2 申请日: 2018-12-18
公开(公告)号: CN109490796A 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 余涛;杨华;柴美荣 申请(专利权)人: 贵州雅光电子科技股份有限公司
主分类号: G01R33/02 分类号: G01R33/02
代理公司: 贵阳中新专利商标事务所 52100 代理人: 刘楠
地址: 550081 贵*** 国省代码: 贵州;52
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 敏感单元 传感芯片 钝化层 二维 芯片 二维传感芯片 输出模拟信号 数字电压信号 温度稳定性 二维磁场 封装处理 感知信号 降低功耗 引出电极 单芯片 电极 检测 感知 制备 输出
【说明书】:

发明公开了一种二维AMR开关传感芯片主要由IC电路、AMR敏感单元、钝化层及引出电极组成。IC电路主要作用是获取敏感单元感知到的信号,经过处理后输出模拟信号,从而实现检测功能;AMR敏感单元是二维传感芯片的核心,主要用于感知信号并输出数字电压信号,提供给IC电路作处理;钝化层主要目的是保护敏感单元,防止敏感单元被氧化;电极的目的是方便芯片作封装处理工作,本发明能够大大降低芯片的使用面积,减少成本,降低功耗,提升产品的温度稳定性及可靠性,实现单芯片二维磁场检测。

技术领域

本发明涉及用于制备二维开关传感器芯片,能够被用来检测x、y两个方向的磁场,从而在二维方向实现检测功能。

背景技术

目前市面上都是一维开关传感芯片,主要包括单片式霍尔效应开关芯片,多芯片封装式AMR开关芯片以及TMR开关芯片。如果要实现二维开关传感功能,必须由两个一维开关传感芯片封装起来,才能实现二维检测功能,这种模式的缺点在于提升了芯片制造难度和制造成本,降低了芯片的可靠性。

发明内容

本发明的目的在于提供一种二维AMR开关传感芯片制备方法,实现在单一芯片上就能实现二维方向上的检测,必须发明一种新的制备工艺,使得芯片能够在二维方向上实现检测功能,而不需通过多芯片封装的形式来实现。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种二维AMR开关传感芯片制备方法,该方法该方法采用在二维AMR开关传感芯片的含IC电路的晶圆上直接生长敏感单元,然后经过真空磁场退火工艺处理,退火时,保证设备所加的磁场在300Gauss以上,磁场方向与敏感单元成45°角,退火时间保持在3h以上;得敏感单元电桥的输出模式为:在零磁场时输出端Vout=0V,当芯片处于X方向的外加饱和磁场环境下,Vout>15mV,当芯片处于Y方向的外加饱和磁场环境下,Vout <-15mV,经过IC电路的数模转换处理后,使得芯片最终的输出结果是,在零磁场时芯片输出电压0V,在x方向饱和磁场环境下芯片输出电压为+VIN,在y方向饱和磁场环境下芯片输出电压为-VIN,最终结果是芯片能够检测x、y两个方向的外磁场,再生长钝化层及电极,最后封装成单一芯片。

优选的,采用梯形结构作为敏感单元与引出电极的互连结构,梯形上底边长为15-25um,下底边长为35-45um,确保良好的欧姆接触。

一种二维AMR开关传感芯片,包括Si基体,在Si基体中部上方设置含IC电路的晶圆,在IC电路的晶圆直接生长AMR敏感单元,在AMR敏感单元设置钝化层,AI电极包裹IC电路、AMR敏感单元和钝化层且该AI电极与IC电路采用欧姆连接,该AI电极位于Si基体上端。

与现有技术相比,本发明同目前实现相同功能的模块相比,本发明能够大大降低芯片的使用面积,减少成本,降低功耗,提升产品的温度稳定性及可靠性,实现单芯片二维磁场检测。

附图说明

图1为本发明的结构示意图;

图2为本发明中敏感单元结构图;

图3为本发明中二维AMR开关传感芯片X、Y方向输出示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于贵州雅光电子科技股份有限公司,未经贵州雅光电子科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811550796.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top