[发明专利]氮化镓外延片垂直漏电流与霍尔效应复合测试方法

权利要求书

1.一种氮化镓外延片垂直漏电流与霍尔效应复合测试方法，有由衬底（1）、缓冲层（2）、沟道层（3）及势垒层（4）构成的氮化镓外延片，其特征在于依次按照如下步骤进行：

将势垒层（4）表面分出垂直漏电流测试区域（5）及霍尔效应测试区域（6）；

进行第一次光刻，使垂直漏电流测试区域（5）全部暴露，霍尔效应测试区域（6）正方形测试单元间的隔离区（7）或电极沉积区（8）暴露；

进行第一次刻蚀，刻蚀深及沟道层；

若霍尔效应测试区域（6）正方形测试单元间的隔离区（7）形成刻蚀沟槽，则进行d.1~d.2 步骤；否则进行d.3~d.7步骤；

d.1 去胶；

d.2 利用第一荫罩板（9）进行电极蒸镀或溅射，所述第一荫罩板（9）上均布有第一电极沉积通孔（10）；

d.3 利用第二荫罩板（11）进行电极蒸镀或溅射，所述第二荫罩板（11）覆盖垂直漏电流测试区域（5）部位设有第一电极沉积通孔（10）、覆盖霍尔效应测试区域（6）部位镂空；

d.4 金属剥离；

d.5 对霍尔效应测试区域 （6）进行第二次光刻，使正方形测试单元间的隔离区（7）暴露；

d.6 对霍尔效应测试区域 （6）进行第二次刻蚀，刻蚀深及沟道层；

d.7 去胶；

垂直漏电流测试；

欧姆接触退火；

霍尔效应测试。