[发明专利]减少刮痕和水痕的晶圆清洗承托装置在审

专利信息
申请号: 201811450437.X 申请日: 2018-11-30
公开(公告)号: CN109701930A 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: 傅梅英 申请(专利权)人: 南安市博铭工业设计有限公司
主分类号: B08B3/00 分类号: B08B3/00;B08B13/00;H01L21/68;H01L21/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 362100 福建省泉州市*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 底架 承托器 晶圆 握杆 刮痕 水痕 承托装置 晶圆清洗 清洗 长方形框体 活动配合 清洗过程 中心对称 左右移动 切口夹 清洁液 正中心 长边 空口 一对一 摩擦 排水 配合 保证
【权利要求书】:

1.减少刮痕和水痕的晶圆清洗承托装置,其特征在于:其结构包括承托器(1)、水流内排结构(2)、底架(3)、操作握杆(4),所述底架(3)为空心的长方形框体,所述底架(3)两条长边正中间设有操作握杆(4),所述操作握杆(4)和底架(3)活动配合,所述底架(3)内部设有两个以上的水流内排结构(2),所述水流内排结构(2)首尾两端皆设有承托器(1),所述承托器(1)和水流内排结构(2)活动嵌合。

2.根据权利要求1所述的减少刮痕和水痕的晶圆清洗承托装置,其特征在于:所述承托器(1)由内流水孔(11)、环形内置板(12)、斗状放置体(13)、内流水道(14)、切口(15)组成,所述斗状放置体(13)顶端内壁设有环形内置板(12),所述斗状放置体(13)为空心结构且其内部空间为内流水道(14),所述环形内置板(12)上均匀钻有两个以上的内流水孔(11),所述斗状放置体(13)顶端边缘处切有一道切口(15),所述斗状放置体(13)底端和水流内排结构(2)活动嵌合。

3.根据权利要求2所述的减少刮痕和水痕的晶圆清洗承托装置,其特征在于:所述切口(15)深度达到环形内置板(12)以下1-1.5cm。

4.根据权利要求1或2所述的减少刮痕和水痕的晶圆清洗承托装置,其特征在于:所述水流内排结构(2)包括连通管(21)、底排(22)、排水道(23),所述底排(22)为一字型结构,所述底排(22)首尾两端水平固定在底架(3)内壁,所述底排(22)正中间开有一个U型的排水道(23),所述排水道(23)两端贯通底排(22)边缘,在U型排水道(23)转折处垂直连接有连通管(21),所述连通管(21)末端贯通底排(22)上表面后与斗状放置体(13)底部相连接,所述连通管(21)连通斗状放置体(13)的内流水道(14)和排水道(23)。

5.根据权利要求4所述的减少刮痕和水痕的晶圆清洗承托装置,其特征在于:所述底架(3)与操作握杆(4)相邻的两边水平设有半圆长条(3a)。

6.根据权利要求4所述的减少刮痕和水痕的晶圆清洗承托装置,其特征在于:两两水流内排结构(2)上的四个承托器(1)在横向和纵向上都是相切的,且承托器(1)上的切口(15)与水平线的夹角都是45度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南安市博铭工业设计有限公司,未经南安市博铭工业设计有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811450437.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top