[发明专利]一种进行AT切温补晶振的应力补偿膜设计方法有效

专利信息
申请号: 201811442141.3 申请日: 2018-11-29
公开(公告)号: CN109543320B 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 苗苗;张艺;李智奇;李皖;周渭;张雪萍;冯娜娜 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: G06F30/23 分类号: G06F30/23;G06F30/17;G06F119/08;G06F119/14
代理公司: 西安吉盛专利代理有限责任公司 61108 代理人: 韩景云
地址: 710071 陕西省*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 进行 at 切温补晶振 应力 补偿 设计 方法
【权利要求书】:

1.一种进行AT切温补晶振的应力补偿膜设计方法,其特征是:至少包括如下步骤:

步骤1:依据压电耦合有限元方程和动力学方程构建AT切温度补偿晶体谐振器的ANSYS三维实体仿真模型;

包括仿真单元类型的选择、材料属性的设定以及网格划分;

步骤2:设定步骤1中仿真模型的边界条件为自由状态,求解其对应的低频振动模态,将求解结果与实际拍摄的振动情况对比,验证ANSYS仿真分析的可行性,并得出AT切晶体谐振器全方位的振动位移曲线;其中,振动位移曲线主要分为厚度剪切振动位移曲线、面剪切振动位移曲线和垂直横线弯曲振动位移曲线。

步骤3:根据步骤1得到的仿真模型,沿其边缘施加不同角度预应力,其中,根据晶体的各向异性和对称性质,以及映射网格划分的密度,设定不同角度分别为0°、45°、90°;求解得到这3个角度预应力对应的厚度剪切振动位移曲线,振动产生的形变和应力成正比关系,通过对比位移曲线结果得到补偿效果明显的加力角度;

步骤4:在步骤3的基础上设计不同形状和方向的补偿膜,分别为沿晶体片X轴方向的条形薄膜、沿晶体片Y轴方向的条形薄膜和与电极为同心圆的圆形薄膜;通过ANSYS仿真分别得到3个不同镀膜方案对应的晶体等效应力曲线,应力越大则温-频特性曲线的补偿效果越明显,得到最佳镀膜补偿方案。

2.根据权利要求1所述的一种进行AT切温补晶振的应力补偿膜设计方法,其特征是:所述步骤1中的仿真单元类型的选择是选择三维实体单元SOLID226。

3.根据权利要求1所述的一种进行AT切温补晶振的应力补偿膜设计方法,其特征是:所述步骤1中材料属性的设定是依据如下参数:

弹性系数矩阵:

压电系数矩阵:

介电常数矩阵:

石英晶体密度:

ρ=2675kg/m3

4.根据权利要求1所述的一种进行AT切温补晶振的应力补偿膜设计方法,其特征是:所述步骤1中网格划分是选择映射网格类型对模型进行划分。

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