[发明专利]一种带电极偏移补偿加工圆形阵列槽的方法在审

专利信息
申请号: 201811355712.X 申请日: 2018-11-14
公开(公告)号: CN109290651A 公开(公告)日: 2019-02-01
发明(设计)人: 徐佩;雷锋;程媛媛;王琼波;王亚东;陈阳;曹妮妮;史亮亮 申请(专利权)人: 中国航发动力股份有限公司
主分类号: B23H9/00 分类号: B23H9/00;B23H1/00;B23H11/00
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 徐文权
地址: 710021*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 偏移补偿 电极 电极座 悬臂式 找正 机床 圆形阵列 带电极 电火花成形机 回转中心 加工程序 加工孔位 零件特征 零件中心 旋转中心 百分表 和运算 基准球 均布槽 偏移量 偏移 重合 调出 放入 内置 四轴 探针 加工 测量 制作 应用 保证
【权利要求书】:

1.一种带电极偏移补偿加工圆形阵列槽的方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1,制作悬臂式电极座;

步骤2,利用探针与基准球找正电极相对于C轴旋转中心的偏移;C轴为绕四轴电火花成形机Z轴旋转的内置C轴结构;

步骤3,找正零件中心,使C轴回转中心与均布槽回转中心重合;

步骤4,调出加工程序,在程序相应变量处输入零件特征尺寸及电极偏移量。

2.根据权利要求1所述的一种带电极偏移补偿加工圆形阵列槽的方法,其特征在于,步骤1中,悬臂式电极座为根据机床可放入最大工件尺寸与机床各轴行程之差设计的悬臂式电极座。

3.根据权利要求1所述的一种带电极偏移补偿加工圆形阵列槽的方法,其特征在于,步骤2中,探针为EROWA探针。

4.根据权利要求1所述的一种带电极偏移补偿加工圆形阵列槽的方法,其特征在于,步骤2中的具体步骤为:

1)将EROWA探针安装在旋转C轴,将基准球与工作台固定;

2)使探针中心与基准球中心同轴,将机床X、Y轴坐标置零;

3)安装悬臂电极座与电极,保证基准球位置不变,利用电极找正基准球,使电极中心与基准球中心同轴。

5.根据权利要求4所述的一种带电极偏移补偿加工圆形阵列槽的方法,其特征在于,电极中心与基准球中心同轴时,机床X、Y轴坐标显示值即为电极相对于C轴旋转中心的偏移量△X与△Y,记录电极偏移量,用以输入程序的相应变量中。

6.根据权利要求4所述的一种带电极偏移补偿加工圆形阵列槽的方法,其特征在于,利用机床进行外部找中使探针中心与基准球中心同轴。

7.根据权利要求1所述的一种带电极偏移补偿加工圆形阵列槽的方法,其特征在于,步骤3中,采用百分表找正或四点找中方法找正零件中心。

8.根据权利要求1所述的一种带电极偏移补偿加工圆形阵列槽的方法,其特征在于,悬臂式电极座包括电极座主体(4)、固定装置和电极(5);电极座主体(4)为L型结构,电极座主体(4)的一端连接到气动夹头,另一端通过固定装置与电极(5)固定。

9.根据权利要求4所述的一种带电极偏移补偿加工圆形阵列槽的方法,其特征在于,固定装置为螺栓。

10.根据权利要求1所述的一种带电极偏移补偿加工圆形阵列槽的方法,其特征在于,基准球为φ15±0.005mm基准球。

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