[发明专利]具有清洗功能的反应釜在审
| 申请号: | 201811261331.5 | 申请日: | 2018-10-26 |
| 公开(公告)号: | CN109289737A | 公开(公告)日: | 2019-02-01 |
| 发明(设计)人: | 郑俊强 | 申请(专利权)人: | 惠州市强茂化工科技有限公司 |
| 主分类号: | B01J19/18 | 分类号: | B01J19/18;B01J19/00 |
| 代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 叶敏明 |
| 地址: | 516200 广东省惠州市惠*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 反应釜体 反应釜 反应釜装置 喷水组件 清洗功能 清洗装置 清洗组件 滑动驱动组件 储水箱体 电磁阀体 环形导轨 搅拌装置 使用寿命 输水管道 相对滑动 应用过程 滑动 安装块 干净度 滑动块 抽送 基台 喷出 刷毛 去除 清洗 储存 驱动 保证 | ||
本发明的具有清洗功能的反应釜,通过设置基台、反应釜装置、清洗装置及搅拌装置。在实际的应用过程中,当需要对反应釜装置进行清洗时,启动清洗装置,电磁阀体将储存在储水箱体中的水由输水管道向多个喷水组件抽送,水最终从喷水组件向反应釜体的外表面喷出,而后,滑动驱动组件驱动滑动块沿环形导轨围绕反应釜体相对滑动,带动清洗组件滑动,清洗组件利用设置在安装块上的多个刷毛,对反应釜体的外表面进行刷洗,去除反应釜体表面的杂质,保证反应釜外表面的干净度,能够延长反应釜体的使用寿命。
技术领域
本发明涉及化工反应装置领域,特别是涉及一种具有清洗功能的反应釜。
背景技术
反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器,通过对容器的结构设计与参数配置,实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能。反应釜广泛应用于石油、化工、橡胶、农药、染料、医药、食品,用来完成硫化、硝化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程的压力容器,例如反应器、反应锅、分解锅、聚合釜等;材质一般有碳锰钢、不锈钢、锆、镍基合金及其它复合材料。
反应釜材质一般有碳锰钢、不锈钢、锆、镍基合金及其它复合材料。反应釜可采用不锈钢材料制造。搅拌器有锚式、框式、桨式、涡轮式,刮板式,组合式,转动机构可采用摆线针轮减速机、无级变速减速机或变频调速等,可满足各种物料的特殊反应要求。密封装置可采用机械密封、填料密封等密封结构。加热、冷却可采用夹套、半管、盘管、米勒板等结构,加热方式有:蒸汽、电加热、导热油,以满足耐酸、耐高温、耐磨损、抗腐蚀等不同工作环境的工艺需要。而且可根据用户工艺要求进行设计、制造。
目前,在聚丙烯酸酯的生产过程需要用到反应釜作为化学反应容器,生产人员在设定好化学反应参数后,将生产聚丙烯酸酯的生产原料放入反应釜中,通过一系列的化学反应生产聚丙烯酸酯。对于现有的反应釜,为了生产出纯度更加的聚丙烯酸酯,通常企业会定期对反应釜的内部进行清洗,防止反应釜内部掺杂过多杂质而影响聚丙烯酸酯的纯度。但现有的清洗工作只针对反应釜内部,并不针对反应釜的外表面,反应釜作为金属容器,反应釜的外表面容易受到环境条件的影响,例如,在环境条件湿度较大的情况下,反应釜的外表面容易受潮生锈;又如,在多灰尘的环境条件下,反应釜的外表面容易沾染灰尘;上述情况都会对反应釜这种金属容器造成一定的影响,影响反应釜的整体机械强度,减小反应釜的使用寿命。因此,需要设计一款可以定期对反应釜的外表面清洁的,保证反应釜外表面干净度的反应釜。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中的不足之处,提供一种能够定期对反应釜体清洁的、保证反应釜体外表面干净度的以及延长反应釜体使用寿命的具有清洗功能的反应釜。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
一种具有清洗功能的反应釜,包括:
基台,所述基台上开设有环形孔;
反应釜装置,所述反应釜装置设置于所述基台上,所述反应釜装置包括承载台、反应釜体和釜体盖,所述承载台设置于所述基台上,所述反应釜体设置于所述承载台上,所述釜体盖设置于所述反应釜体上;
清洗装置,所述清洗装置包括环形导轨、滑动块、清洗组件、滑动驱动组件、储水箱体、输水管道、电磁阀体和多个喷水组件,所述环形导轨临近所述环形孔设置于所述基台上,所述滑动块滑动设置于所述环形导轨上,所述清洗组件设置于所述滑动块上,所述清洗组件包括安装块和多个刷毛,所述安装块设置于所述滑动块上,多个所述刷毛分别设置于所述安装块上,所述滑动驱动组件设置于所述反应釜体上,并且所述滑动驱动组件的转动轴与所述滑动块连接,所述储水箱体设置于所述承载台上,所述输水管道的输入端与所述储水箱体的出水口连通,所述电磁阀体的输入端与所述输水管道的输出端连通,多个所述喷水组件分别设置于所述承载台的内侧壁上,并且各所述喷水组件的输入端分别与所述电磁阀体的输出端连通;及
搅拌装置,所述搅拌装置设置于所述釜体盖上。
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