[发明专利]毫米波圆波导多模三通道跟踪馈源在审

专利信息
申请号: 201811252245.8 申请日: 2018-10-25
公开(公告)号: CN109326887A 公开(公告)日: 2019-02-12
发明(设计)人: 杨东;沈泉;马行军;吴红艳;赵亮;刘兆明;王海花;曾锋;杨则南;杨欢;张铮 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第三十九研究所
主分类号: H01Q13/02 分类号: H01Q13/02;H01Q1/50;H01P5/20
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 陈星
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 三通道 多模 模耦合器 圆波导 毫米波 馈电网络 模组合 自跟踪 馈源 单脉冲跟踪 毫米波频段 波纹喇叭 仿真设计 合成网络 机械加工 结构实现 网络 差通道 传统的 跟踪 波长 模组 正交 焊接 喇叭 雷达 生产
【权利要求书】:

1.一种毫米波圆波导多模三通道跟踪馈源,其特征在于:由多模波纹喇叭和馈电网络组成,采用多模三通道自跟踪体制,最终输出接收、方位跟踪和俯仰跟踪3个通道信号;

所述馈电网络包括TE01模耦合器、TE21模耦合器、TM01模耦合器、TE01模组合网络、TE21模组和网络、TM01模组合网络、差通道合成网络和TE11模正交器;每个耦合器均采用主通道圆波导和相对主通道中心轴线对称分布的矩形波导相配合结构;

波纹喇叭通过连接法兰与TE01模耦合器相连,TE01模耦合器由四个矩形波导输出,四个矩形波导通过TE01模组合网络合成起来,输出的TE01模信号经过移相弯头接到差通道合成网络上;

TE01模组合网络后为TE21模耦合器,TE21模耦合器采用两个45度正交的耦合器构成,在同一段圆波导同时耦合出TE21模和正交的TE21*模,TE21模耦合器由八个矩形波导输出,八个矩形波导通过TE21模组合网络合成起来,输出的TE21模和TE21*模信号经过移相弯头接到差通道合成网络上;

TE21模组合网络后为TM01模耦合器,TM01模耦合器由四个矩形波导输出,四个矩形波导通过TM01模组合网络合成起来,输出的TM01模信号直接连接到差通道合成网络上;

差通道合成网络输出方位跟踪和俯仰跟踪两个通道信号;

TE11模正交器连接在差通道合成网络之后,输出接收通道信号。

2.根据权利要求1所述一种毫米波圆波导多模三通道跟踪馈源,其特征在于:所述波纹喇叭的喇叭后口圆波导的半径R满足1.64R≥λmax,λmax为TE01模的截止波长;且根据照射角和照射电平,优化喇叭口径、张角、波纹槽参数,使喇叭方向图达到等化要求。

3.根据权利要求1所述一种毫米波圆波导多模三通道跟踪馈源,其特征在于:所述TE01模耦合器由作为主耦合线的圆波导和作为副耦合线的矩形波导构成,在圆波导周向均匀分布有四个矩形波导;四根矩形波导耦合臂通过耦合孔实现对圆波导中TE01模的0dB耦合,而对圆波导中的主模TE11模和其它高次模不耦合;

TE01模组合网络由从矩形波导E面中心分开且对称加工的上下两个盖板通过螺钉连接组成;包括多级功分器,每一级功分器为由3dB电桥和90度移相波导构成的平面魔T;;TE01模组合网络有4个入口和一个出口,入口通过H弯波导和TE01模耦合器副波导出口相连,出口通过移相弯头接到差通道合成网络。

4.根据权利要求1所述一种毫米波圆波导多模三通道跟踪馈源,其特征在于:所述TE21模耦合器由两个45度正交的耦合器构成,且两个45度正交的耦合器共用一个作为主耦合线的圆波导,每个耦合器还具有在圆波导周向均匀分布的四个矩形波导,共形成八个在圆波导周向均匀分布的矩形波导;其中一个耦合器的四根矩形波导耦合臂通过耦合孔实现对圆波导中TE21模的0dB耦合,另一个耦合器的四根矩形波导耦合臂通过耦合孔实现对圆波导中TE21*模的0dB耦合;

TE21模组合网络分为上层组合网络和下层组合网络,分别合成TE21模信号和TE21*模信号,每层组合网络为从矩形波导E面中心分开且对称加工的上下两个盖板通过螺钉连接组成;

每层组合网络包括多级功分器,每一级功分器为由3dB电桥和90度移相波导构成的平面魔T;每层组合网络有4个入口和一个出口,入口通过H弯波导和相应耦合器副波导出口相连,出口通过移相弯头接到差通道合成网络。

5.根据权利要求4所述一种毫米波圆波导多模三通道跟踪馈源,其特征在于:上层组合网络和下层组合网络共由三层盖板组成,其中上层盖板的下表面与中间盖板的上表面组成上层组合网络,中间盖板的下表面与下层盖板的上表面组成下层组合网络。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第三十九研究所,未经中国电子科技集团公司第三十九研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811252245.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top