[发明专利]一种去除干膜的方法在审
| 申请号： | 201811248671.4 | 申请日： | 2018-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN109270808A | 公开（公告）日： | 2019-01-25 |
| 发明（设计）人： | 罗明;雷志紅 | 申请（专利权）人： | 健鼎（湖北）电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 | 代理人： | 杨文录 |
| 地址： | 433000 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 干膜 去除 浓度乙醇 不良率 对基板 稀释液 裂解 去膜 剥离 金属 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种去除干膜的方法，其特征在于：以乙醇胺稀释液去除覆盖于基板的干膜。
2.根据权利要求1所述去除干膜的方法，其中按照所述乙醇胺稀释液总重量为100％计，乙醇胺的量为1-6％，其余为纯水。
3.根据权利要求2所述去除干膜的方法，其中按照所述乙醇胺稀释液总重量为100％计，乙醇胺的量为1-5％，其余为纯水。
4.根据权利要求1所述去除干膜的方法，其中乙醇胺稀释液以冲洗或浸泡的方式，去除覆盖在所述基板上的干膜。
5.根据权利要求4所述去除干膜的方法，其中所述基板经过乙醇胺溶液冲洗或浸泡后，还包括纯水冲洗的步骤。
6.根据权利要求1所述去除干膜的方法，所述基板材质为金属。
7.根据权利要求6所述去除干膜的方法，所述基板材质为铜或金。
8.根据权利要求1或4所述去除干膜的方法，其特征在于，在去除干膜过程中，所述基板移动速度为1-5米/分钟，优选1-3米/分钟，更优选2-2.5米/分钟。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于健鼎（湖北）电子有限公司，未经健鼎（湖北）电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811248671.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种双面标记激光曝光设备
- 下一篇：分区对位模式的拼版曝光装置及其曝光方法
