[发明专利]一种高透明低色差纳米涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种高透明低色差产品表面纳米涂层，将基材暴露于单体蒸汽氛围中，通过等离子体放电在基材表面发生化学反应形成保护涂层；

所述单体蒸汽为汽化的单体1和单体2的混合物；

所述单体1具有如下的式(I)所示结构；所述单体2具有如下的式(II)所示结构；

单体1：

单体2：

其中，R¹、R²独立地选自氢、烷基、芳基、卤素或卤代烷基；Y、Z独立地选自键、-O-、烷基亚基、-CO-、-COO-和-CONH-中的一种或者若干种连接而成的基团；

R³为含有支链碳原子数2个以上的脂肪烷烃亚基、芳基亚基或环烷烃亚基，或者被羟基、卤素、羰基取代的含支链脂肪烷基亚基、芳基亚基或环烷烃亚基；

R⁴、R⁵、R⁶独立地选自氢、烷基、芳基、卤素、卤代烷基、烯基或卤代烯基；X选自氢或者卤素；

m、n、k为0-8整数；l为1-20的整数。

2.根据权利要求1所述的高透明低色差产品表面纳米涂层，其特征在于，R³为芳基亚基或环己烷亚基。

3.根据权利要求1所述的高透明低色差产品表面纳米涂层，其特征在于，m、n、k为0、1、2或3。

4.根据权利要求1所述的高透明低色差产品表面纳米涂层，其特征在于，所述基材为光学仪器、金属表面、电子设备或织物。

5.一种权利要求1-4任一项所述的高透明低色差产品表面纳米涂层的制备方法，其特征在于，其包括以下步骤：

(1)将基材置于等离子体室的反应腔体内，反应腔体内的真空度为0.0001-1000毫托；

(2)通入等离子体源气体，开启沉积用等离子体放电，将所述单体蒸汽导入反应腔体进行化学气相沉积反应；

(3)关闭沉积用等离子体放电，通入洁净的压缩空气或者惰性气体恢复至常压，打开腔体，取出基材。

6.根据权利要求5所述的纳米涂层的制备方法，其特征在于，所述单体1和单体2分别通入反应腔体；

或者，所述单体1和单体2同时通入反应腔体；

或者，先将所述单体1和单体2中的一种先通入反应腔体，后再同时通入单体1和单体2。

7.根据权利要求5所述的纳米涂层的制备方法，其特征在于，将所述单体1和单体2通过加料泵进行雾化、挥发形成所述单体蒸汽。

8.根据权利要求5所述的纳米涂层的制备方法，其特征在于，步骤(2)中所述的等离子体源气体可以是氦气、氩气、氮气和氢气中的一种或者若干种的混合物。

9.根据权利要求5所述的纳米涂层的制备方法，其特征在于，所述等离子体室反应腔体的容积为1L-5000L，等离子体源气体流量为5-1000sccm，单体蒸汽通入反应腔体时的流量为1-2000μL/min。

10.根据权利要求5所述的纳米涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，在通入所述等离子体源气体后以及在所述沉积用等离子体放电之前，还包括对基材进行预处理用等离子体放电工序。

11.根据权利要求10所述的纳米涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述预处理用等离子体放电的功率为2-500W，持续放电时间为1-5400s。

12.根据权利要求5所述的纳米涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述沉积用等离子体放电的功率为2-500W，持续放电时间为600-20000s。