[发明专利]一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi2

权利要求书

1.一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi₂涂层的方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)对钼合金板进行表面抛光，并清洗、烘干；

(2)通过磁控溅射在步骤(1)获得的钼合金板上溅射Si薄层；

(3)将含硅合金粉末进行球磨；

(4)将步骤(3)获得的含硅合金粉末预置在步骤(2)获得的溅射Si薄层的钼合金上；

(5)采用激光器对步骤(4)获得的预置合金粉末的钼合金进行激光扫描，制成表面MoSi₂涂层；

步骤(2)所述的Si薄层的厚度为20～30μm。

2.根据权利要求1所述的一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi₂涂层的方法，其特征在于，步骤(3)所述含硅合金粉末的成分为按质量百分比由以下成分组成Mo 50～60％，Nb 3.5～7.5％，W 3.0～6.0％，Cr 2.5～4.5％，Ti 2.0～3.5％，Al 2.0～5.5％，余量为Si。

3.根据权利要求2所述的一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi₂涂层的方法，其特征在于，所述Mo、Nb、W、Cr、Ti、Al和Si均以合金粉末的形式加入，各元素粉末纯度大于99.5％，颗粒直径小于4.5μm。

4.根据权利要求1所述的一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi₂涂层的方法，其特征在于，步骤(2)所述磁控溅射，为使用高纯氩气作为溅射气体，氩气气流量为25～35sccm，氩气溅射气压为0.15～0.35Pa。

5.根据权利要求1所述的一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi₂涂层的方法，其特征在于，步骤(3)所述球磨的时间为18～24h，球磨转速为300～450r/min。

6.根据权利要求1所述的一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi₂涂层的方法，其特征在于，步骤(4)所述预置，为采用酒精或丙酮将含硅合金粉末粘附在溅射Si薄层的钼合金表面，预置含硅合金粉末厚度为0.5～1.0mm，并置于140～160℃加热炉中，干燥30～40min。

7.根据权利要求1所述的一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi₂涂层的方法，其特征在于，步骤(5)中所述激光扫描的搭接率为40～60％，激光功率2.0～2.4kW，扫描速度4～8mm/s。