[发明专利]蒸镀装置在审
| 申请号： | 201811206219.1 | 申请日： | 2018-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN109321884A | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 徐超 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒸镀装置 子腔体 蒸镀材料 蒸镀源 主腔体 备用 连续镀膜 维修保养 产能 腔体 蒸镀 耗尽 申请 | ||
1.一种蒸镀装置，其特征在于，包括：
主腔体，包括第一壳体、位于所述第一壳体内的载台及与所述载台相对设置的线源坩埚；
至少两个子腔体，包括蒸镀源；
开关，用于控制所述子腔体或所述蒸镀源的打开或关闭；
至少两个第一通道，所述第一通道包括第一部分和第二部分，所述第一部分位于所述主腔体内，所述第二部分位于所述子腔体内，所述线源坩埚通过所述第一通道与所述蒸镀源连接。
2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述子腔体内设置有至少一第一监控装置，所述第一监控装置用于监控所述蒸镀源内蒸镀材料的剩余量。
3.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述主腔体内还设置有至少一第二监控装置，所述第二监控装置用于监控蒸镀材料的速率。
4.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，每一所述第一通道上至少设置有第一开关和第二开关；
所述第一开关位于所述第一部分上，所述第二开关位于所述第二部分上。
5.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述线源坩埚包括第二壳体、及设置于所述第二壳体上的第一通孔。
6.根据权利要求5所述的蒸镀装置，其特征在于，所述线源坩埚还包括设置于所述第二壳体内的至少一气流分散板、及设置于所述气流分散板上的第二通孔。
7.根据权利要求6所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一通孔的孔径不小于所述第二通孔的孔径。
8.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置至少包括第一子腔体和第二子腔体；
所述第一子腔体及所述第二子腔体中的所述蒸镀源与至少一所述第一通道连接。
9.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述线源坩埚、所述蒸镀源或所述第一通道中至少一者的表面设置有加热装置。
10.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述载台包括第一开口；
所述第一开口在第一方向上的间距小于目标基板在第一方向上的长度。
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