[发明专利]量子点及其制备方法在审
| 申请号: | 201811156581.2 | 申请日: | 2018-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN110964504A | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
| 发明(设计)人: | 聂志文;杨一行 | 申请(专利权)人: | TCL集团股份有限公司 |
| 主分类号: | C09K11/02 | 分类号: | C09K11/02;C09K11/88;B82Y20/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 官建红 |
| 地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 量子 及其 制备 方法 | ||
1.一种量子点,其特征在于,包括III-V族量子点核和包覆在所述III-V族量子点核表面的乙酰丙酮盐壳层。
2.如权利要求1所述的量子点,其特征在于,所述乙酰丙酮盐壳层的材料选自乙酰丙酮锌、乙酰丙酮镉、乙酰丙酮汞、乙酰丙酮铍、乙酰丙酮钙、乙酰丙酮镁、乙酰丙酮锶、乙酰丙酮钡、乙酰丙酮钴、乙酰丙酮镍、乙酰丙酮铁、乙酰丙酮钛、乙酰丙酮锰、乙酰丙酮钾、乙酰丙酮锆、乙酰丙酮锂、乙酰丙酮钴、乙酰丙酮铜、乙酰丙酮氧钛、乙酰丙酮氧钒、乙酰丙酮锶、乙酰丙酮钍、乙酰丙酮亚铁、乙酰丙酮锆、乙酰丙酮铪、乙酰丙酮镓、乙酰丙酮铟和乙酰丙酮铝中的至少一种。
3.如权利要求1所述的量子点,其特征在于,所述III-V族量子点核的材料选自GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb、GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、GaAlNP、GaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb和InZnP中的一种。
4.如权利要求1所述的量子点,其特征在于,所述III-V族量子点核中含有掺杂元素,所述掺杂元素选自比Zn2+的有效离子半径小的IIA族元素和比Zn2+的有效离子半径小的IIIA族元素中的至少一种。
5.如权利要求1-4任一项所述的量子点,其特征在于,所述量子点还包括包覆在所述乙酰丙酮盐壳层表面的II-VI族半导体外壳层。
6.如权利要求5所述的量子点,其特征在于,所述II-VI族半导体外壳层的材料选自CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、MgSe、MgS、CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe、MgZnSe、MgZnS、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnTeS、CdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe和HgZnSTe中的至少一种;和/或
所述II-VI族半导体外壳层的厚度为3-5nm。
7.一种量子点的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
提供乙酰丙酮盐和含有量子点核的溶液,所述量子点核为含有掺杂元素的III-V族量子点核或者不含有掺杂元素的III-V族量子点核;
将所述乙酰丙酮盐加入所述含有量子点核的溶液中,在第一温度条件下加热,在所述III-V族量子点核表面形成乙酰丙酮盐壳层,得到所述量子点。
8.如权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述乙酰丙酮盐选自乙酰丙酮锌、乙酰丙酮镉、乙酰丙酮汞、乙酰丙酮铍、乙酰丙酮钙、乙酰丙酮镁、乙酰丙酮锶、乙酰丙酮钡、乙酰丙酮钴、乙酰丙酮镍、乙酰丙酮铁、乙酰丙酮钛、乙酰丙酮锰、乙酰丙酮钾、乙酰丙酮锆、乙酰丙酮锂、乙酰丙酮钴、乙酰丙酮铜、乙酰丙酮氧钛、乙酰丙酮氧钒、乙酰丙酮锶、乙酰丙酮钍、乙酰丙酮亚铁、乙酰丙酮锆、乙酰丙酮铪、乙酰丙酮镓、乙酰丙酮铟、乙酰丙酮铝中的至少一种;
所述第一温度条件为120-250℃;和/或
所述第一温度条件下加热的时间为30-60min。
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