[发明专利]一种赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法

权利要求书

1.一种赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法，其特征在于：所需材料及试剂包括：二氧化硅粒子、去离子水、乙醇、氨水、氢氧化钠、醋酸、正硅酸乙酯、γ-丙基三甲氧基硅烷、缓冲溶液，所需设备包括：三颈瓶、离心管、离心机、水浴箱、透射电镜、真空干燥箱、pH计，所述二氧化硅粒子为利用Stober方法自行制备，性能优越，氨基与羧基比例为1：1；所述缓冲溶液根据工艺的需要有两种，一种是促进二氧化硅粒子吸附DNA片段的低pH值的0.02M缓冲溶液，另一种是促进二氧化硅粒子脱附DNA片段的高pH值的0.02M缓冲溶液，具体pH值视DNA片段类型而定；所述透射电镜型号为JEM-1200；所述离心机型号为Sigma 1-14；所述pH计型号为Sartorius PB-20；所述真空干燥箱为DZG-6020。

2.根据权利要求1所述的一种赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法，其特征在于：方法实施如下：

(一)二氧化硅粒子制备：将去离子水、乙醇、氨水在三颈瓶中混合，并在300rpm、30℃的条件下搅拌，同时快速加入正硅酸乙酯，进行6h的反应后会产生二氧化硅粒子，将整个体系放入离心机，在8500rpm下离心处理20min，保留二氧化硅粒子，并用乙醇反复清洗数次，再用清水清洗数次，然后将二氧化硅粒子与去离子水混合均匀，超声下处理，将混合液移至离心管中，放入真空干燥箱中干燥24小时，再真空干燥12小时，通过称重定量，最后利用投射电镜观察二氧化硅粒子的形貌、单分散性和粒径，选取符合要求的二氧化硅粒子；

(二)赖氨酸修饰二氧化硅粒子：将赖氨酸溶解于去离子水中，溶解均匀后向溶液中加入少量NaOH同时利用pH计监测，将溶液的pH值调整到11.0，然后将溶液放入0℃的水浴箱中，恒温滴加γ-丙基三甲氧基硅烷并搅拌均匀，再以450rpm的转速在65℃的水浴箱中搅拌5h，再将溶液体系置于0℃的水浴箱中进行冷却，冷却完成后缓慢滴加γ-丙基三甲氧基硅烷，再次以450rpm的转速在65℃的水浴箱中搅拌5h，在pH计的监测下加入醋酸将溶液pH值调整为3.0，加入去离子水和二氧化硅颗粒，在80℃、150rpm的条件下进行4h的反应，再在离心机中以8500rpm的转速离心处理20min,保留二氧化硅粒子，并进行反复多次水洗，将二氧化硅粒子装入离心管并放入真空干燥箱内进行12h真空干燥处理，通过称重定量；

(三)二氧化硅颗粒对DNA的吸附：将二氧化硅粒子与DNA溶液加入离心管中，然后加入低pH值的0.02M缓冲溶液，在pH计的监测下将溶液pH调至促进DNA吸附的状态，在30℃下充分震荡2.5小时，然后将离心管置于离心机内，在8000rpm转速下离心处理10min，保留二氧化硅颗粒；

(四)二氧化硅颗粒对DNA的脱附：将步骤(三)得到的二氧化硅颗粒加入到高pH值的0.02M的缓冲溶液中，在pH计的监测下将溶液pH调至促进DNA脱附的状态，在30℃下充分震荡2.5小时，然后将离心管置于离心机内，在8000rpm转速下离心处理10min，完成脱附并取上清液。

3.根据权利要求1、2所述的一种赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法，其特征在于：不同类型DNA片段对二氧化硅粒子的吸附和脱附对应的pH值不同，因此，所述步骤(三)和(四)中缓冲液加入后的pH值，应针对不同的DNA片段具体的吸附与脱附性能选择合适的pH值。