[发明专利]VOCs的处理装置及VOCs的处理方法

权利要求书

1.一种VOCs的处理装置，其特征在于，包括等离子体模块组件，所述等离子体模块组件包括：

处理室，所述处理室用于处理包含VOCs的气体，所述处理室设置有分别用于所述气体进出的处理室进口和处理室出口；

第一电极构件，所述第一电极构件延伸穿过所述处理室；

第二电极构件，所述第二电极构件与所述第一电极构件传导的电流极性相反，并且所述第二电极构件形成所述处理室的一部分且与第一电极构件靠近且间隔地设置，以使所述第一电极构件和第二电极构件之间能够产生电场，所述电场用于使所述处理室中的气体产生活性粒子；以及

分子筛，所述分子筛具有羟基基团并设置在所述处理室中，以能够使得所述羟基基团被所述活性粒子离解成羟基自由基，所述羟基自由基用于使得所述VOCs氧化分解。

2.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，所述分子筛为木质素基分子筛。

3.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，所述处理装置还包括用于辐射紫外线的紫外线辐射设备，以使所述紫外线将所述气体中的O₂变成臭氧，所述分子筛位于所述紫外线的辐射区域，以使所述臭氧使所述分子筛的内部的VOCs氧化分解。

4.根据权利要求3所述的处理装置，其特征在于，所述紫外线辐射设备设置在所述处理室的外侧。

5.根据权利要求3所述的处理装置，其特征在于，所述第一电极构件沿所述处理室的高度方向延伸，所述第二电极构件形成所述处理室的沿所述高度方向延伸的第一壁。

6.根据权利要求5所述的处理装置，其特征在于，所述紫外线辐射设备设置在所述处理室的与所述第一壁相接的第二壁的外侧，所述第二壁由钛元素改性的石英玻璃板制成。

7.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，所述等离子体模块组件还包括设置在所述处理室中的绝缘介质，所述绝缘介质包覆所述第一电极构件，并且/或者

所述第一电极构件为正极构件，所述第二电极构件为负极构件。

8.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，至少两个所述处理室成排设置，并且所述至少两个处理室中的每一个均包括所述第一电极构件和所述第二电极构件并填装有所述分子筛。

9.根据权利要求3所述的处理装置，其特征在于，所述处理装置还包括壳体，所述壳体设置有分别用于气体进出的装置进口和装置出口，至少一组的所述等离子体模块组件和所述紫外线辐射设备设置在所述壳体中。

10.一种使用根据权利要求1至9中任一项所述的处理装置的VOCs的处理方法，其特征在于，包括如下步骤：

活性粒子产生步骤，其中，对所述处理室中的包含VOCs的气体施加由所述第一电极构件和所述第二电极构件产生的所述电场，以使所述气体放电产生活性粒子；

羟基自由基产生步骤，其中，所述活性粒子作用于设置在所述处理室中的所述分子筛，以使所述分子筛的羟基基团离解成羟基自由基；以及

羟基自由基氧化VOCs步骤，其中，所述羟基自由基作用于所述VOCs，以使所述VOCs氧化分解。

11.根据权利要求10所述的处理方法，其特征在于，所述处理装置还包括紫外线辐射设备，所述处理方法还包括：

臭氧产生步骤，其中，所述紫外线辐射设备辐射的紫外线作用于所述气体中包含的O₂，从而使所述O₂变成臭氧；以及

臭氧氧化VOCs步骤，其中，所述臭氧作用于所述分子筛的内部的VOCs，以使所述VOCs氧化分解。

12.根据权利要求11所述的处理方法，其特征在于，所述羟基自由基氧化VOCs步骤和所述臭氧氧化VOCs步骤同时进行。

13.根据权利要求10所述的处理方法，其特征在于，还包括在所述活性粒子产生步骤之后的VOCs断键步骤，其中，所述活性粒子作用于所述VOCs，以使VOCs的分子结构因断键而被破坏。