[发明专利]一种双面氧化铝结构的PERC双面电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811061490.0 申请日: 2018-09-12
公开(公告)号: CN109244184B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 刘斌;黄辉巍;薛伟;陆晓慧;黄柳柳 申请(专利权)人: 江苏顺风新能源科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/068
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 朱晓凯
地址: 213164 江苏省常州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 双面 氧化铝 结构 perc 电池 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种双面氧化铝结构的PERC双面电池的制备方法,所述PERC双面电池包括硅片和设于硅片正面的正电极,所述硅片正面依次设有正面二氧化硅层、正面氧化铝膜和减反膜;所述硅片的背面依次形成有背面二氧化硅层、背面氧化铝膜、钝化膜和背电极;其特征在于:其制备方法包括如下步骤:

1)清洗、制绒;

2)磷扩散制备pn结;

3)背面抛光、刻蚀,去PSG;

4)退火氧化,将硅片以背靠背方式插片送入炉管内,在500-750℃温度下进行退火氧化,控制退火氧化时间在10-20min,使硅片正面生长的二氧化硅层厚度大于3nm,硅片背面生长的二氧化硅层厚度小于3nm;

5)双面镀氧化铝膜,采用Temporal ALD方式,将硅片单插方式在ALD腔室内,真空条件下周期性通入TMA、N2、H2O双面沉积氧化铝膜;

6)正面减反膜沉积;

7)背面钝化膜沉积;

8)激光开槽;

9)丝网印刷、烧结。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述正面二氧化硅层厚度控制在大于3nm小于5nm,背面二氧化硅层厚度控制在1-2nm。

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