[发明专利]掩膜组件及掩膜组件的制造方法有效
| 申请号: | 201811055629.0 | 申请日: | 2018-09-11 |
| 公开(公告)号: | CN109585696B | 公开(公告)日: | 2023-09-19 |
| 发明(设计)人: | 金相勋 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
| 主分类号: | H10K71/16 | 分类号: | H10K71/16;H10K50/10 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 孙昌浩;李盛泉 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 组件 制造 方法 | ||
1.一种掩膜组件,包括:
掩膜框架,包括开口部;
掩膜,布置在所述掩膜框架上;以及
支撑杆,布置在所述掩膜框架与所述掩膜之间,定义有沿第一方向延伸的短边及沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的长边,并包括沿着所述长边而排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部,并且所述中心部与所述掩膜重叠,
所述支撑杆的中心线以经过所述支撑杆的短边的中点而穿过所述第一夹紧部和所述第二夹紧部的短边的中点的方式沿着所述长边延伸而被定义,
所述支撑杆的重心定义于所述中心线上,
所述中心部以所述中心线为基准而分为具有不同形状的第一部分及第二部分,
所述第一部分包括具有比所述第一夹紧部及所述第二夹紧部朝所述第一方向更凸出的凸出部以及朝与所述第一方向相反的方向更凹陷的槽部的第一图案部。
2.如权利要求1所述的掩膜组件,其中,
所述掩膜包括多个开口,
所述多个开口由与所述支撑杆重叠的非活性区域以及作为与所述非活性区域以外的部分的活性区域定义。
3.如权利要求2所述的掩膜组件,其中,
所述第一部分及所述第二部分具有相同的面积。
4.如权利要求3所述的掩膜组件,其中,
所述第二部分包括具有比所述第一夹紧部及所述第二夹紧部朝与所述第一方向相反的方向更凸出的凹凸形状的第二图案部。
5.如权利要求1所述的掩膜组件,其中,
所述第一夹紧部及所述第二夹紧部的面积相同。
6.如权利要求1所述的掩膜组件,其中,
所述支撑杆的厚度为50μm至150μm。
7.如权利要求1所述的掩膜组件,其中,
所述支撑杆利用非磁性物质构成。
8.一种掩膜组件,包括:
支撑杆,包括沿第一方向延伸的短边以及沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的长边,并包括沿着所述长边排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部;
多个掩膜,沿着所述第二方向排列,并且分别与所述支撑杆重叠;
所述支撑杆的中心线,以如下方式定义:沿着所述第二方向延伸,并经过所述支撑杆的所述短边的中点而穿过所述第一夹紧部和所述第二夹紧部的短边的中点,并经过所述中心部的重心,
所述中心部以所述中心线为基准而分为具有彼此不同的形状的第一部分及第二部分,
所述第一部分包括具有比所述第一夹紧部及所述第二夹紧部朝所述第一方向更凸出的凸出部以及朝与所述第一方向相反的方向更凹陷的槽部的第一图案部。
9.如权利要求8所述的掩膜组件,其中,
所述支撑杆配备多个,并且沿着所述第一方向而相隔布置。
10.如权利要求9所述的掩膜组件,其中,
所述掩膜包括多个开口,
所述多个开口由与所述支撑杆重叠的非活性区域以及作为与所述非活性区域以外的部分的活性区域定义。
11.如权利要求10所述的掩膜组件,其中,
所述第一部分及所述第二部分具有相同面积。
12.如权利要求9所述的掩膜组件,其中,
所述第二部分包括具有比所述第一夹紧部及所述第二夹紧部朝与所述第一方向相反的方向更凸出的凹凸形状的第二图案部。
13.如权利要求8所述的掩膜组件,其中,
所述第一夹紧部及第二夹紧部的面积相同。
14.一种掩膜组件制造方法,包括如下步骤:
提供包括开口部的掩膜框架;
提供支撑杆,该支撑杆布置在所述掩膜框架上,包括沿第一方向延伸的短边以及沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的长边,并包括沿着所述长边排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部;
利用夹具固定所述第一夹紧部及所述第二夹紧部的至少一部分;
提供布置在所述支撑杆上并包括多个开口的掩膜;
将所述支撑杆布置在所述掩膜与所述掩膜框架之间,并将所述掩膜与所述掩膜框架接合,
其中,所述支撑杆包括:中心线,以如下方式定义:沿着所述第二方向延伸,并经过所述支撑杆的所述短边的中点而穿过所述第一夹紧部和第二夹紧部的短边的中点,
所述中心部以所述中心线为基准分为具有彼此不同的形状的第一部分及第二部分,
所述第一部分包括具有比所述第一夹紧部及所述第二夹紧部朝所述第一方向更凸出的凸出部以及朝与所述第一方向相反的方向更凹陷的槽部的图案部。
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