[发明专利]OLED显示面板及其制作方法在审
| 申请号: | 201811015567.0 | 申请日: | 2018-08-31 |
| 公开(公告)号: | CN109244111A | 公开(公告)日: | 2019-01-18 |
| 发明(设计)人: | 张明;杨杰 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L21/78;H01L21/77 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
| 地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 紫外反射层 反射层 基板 薄膜晶体管阵列 发光器件 激光 薄膜晶体管 层叠设置 刚性基板 结构产生 封装层 折射率 制程 反射 制作 损伤 剥离 | ||
1.一种OLED显示面板,其特征在于,包括:
基板;
设置在所述基板上的紫外反射层;
设置在所述紫外反射层上的薄膜晶体管阵列;
设置在所述薄膜晶体管上的发光器件;
设置在所述发光器件上的封装层;
其中,所述紫外反射层包括至少一对层叠设置的第一反射层和第二反射层,所述第一反射层和所述第二反射层的折射率不同。
2.根据权利要求1所述的OLED基板,其特征在于,还包括设置在所述第一反射层与所述第二反射层之间的补充基板,所述补充基板与所述基板的材料相同。
3.根据权利要求2所述的OLED基板,其特征在于,所述紫外反射层与所述薄膜晶体管之间设置有所述补充基板。
4.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述第一反射层包括氧化硅和氧化铝中的其中一者,所述第二反射层包括氧化钛、氧化锆和氧化锌中的其中一者。
5.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述第一反射层与所述第二反射层满足如下公式:
λ=2(n1d1+n2d2),其中,所述λ为激光波长,所述n1为所述第一反射层的材料折射系数,所述n2为所述第二反射层的材料折射系数,所述d1为所述第一反射层的膜层厚度,所述d2为所述第二反射层的膜层厚度。
6.根据权利要求5所述的OLED显示面板,其特征在于,所述激光波长大于280纳米并小于300纳米,所述第一反射层的材料折射系数大于1.4并小于1.6,所述第二反射层的材料折射系数大于1.9并小于2.1,所述第一反射层的膜层厚度大于1纳米并小于100纳米。
7.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述第一反射层和所述第二反射层的折射率差值大于或者等于0.2。
8.一种OLED显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
步骤S10、提供一刚性基板,并在所述刚性基板上形成基板;
步骤S20、在所述基板上形成紫外反射层,所述紫外反射层包括至少一对层叠设置的第一反射层和第二反射层;
步骤S30、在所述紫外反射层上依次形成薄膜晶体管阵列、发光器件和封装层;
步骤S40、采用激光剥离技术剥离所述刚性基板;
其中,所述第一反射层和所述第二反射层的折射率不同,所述第一反射层与所述第二反射层满足如下公式:
λ=2(n1d1+n2d2),所述λ为反射光波长,所述n1为所述第一反射层的材料折射系数,所述n2为所述第二反射层的材料折射系数,所述d1为所述第一反射层的膜层厚度,所述d2为所述第二反射层的膜层厚度。
9.根据权利要求8所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述步骤S20还包括:
在形成所述紫光反射层的同时,在所述第一反射层与所述第二反射层之间形成补充基板,所述补充基板的制备材料与所述基板的制备材料相同。
10.根据权利要求9所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,步骤S20还包括:在所述紫外反射层上设置所述补充基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





