[发明专利]OLED显示面板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201811015567.0 申请日: 2018-08-31
公开(公告)号: CN109244111A 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 张明;杨杰 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L21/78;H01L21/77
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 紫外反射层 反射层 基板 薄膜晶体管阵列 发光器件 激光 薄膜晶体管 层叠设置 刚性基板 结构产生 封装层 折射率 制程 反射 制作 损伤 剥离
【权利要求书】:

1.一种OLED显示面板,其特征在于,包括:

基板;

设置在所述基板上的紫外反射层;

设置在所述紫外反射层上的薄膜晶体管阵列;

设置在所述薄膜晶体管上的发光器件;

设置在所述发光器件上的封装层;

其中,所述紫外反射层包括至少一对层叠设置的第一反射层和第二反射层,所述第一反射层和所述第二反射层的折射率不同。

2.根据权利要求1所述的OLED基板,其特征在于,还包括设置在所述第一反射层与所述第二反射层之间的补充基板,所述补充基板与所述基板的材料相同。

3.根据权利要求2所述的OLED基板,其特征在于,所述紫外反射层与所述薄膜晶体管之间设置有所述补充基板。

4.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述第一反射层包括氧化硅和氧化铝中的其中一者,所述第二反射层包括氧化钛、氧化锆和氧化锌中的其中一者。

5.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述第一反射层与所述第二反射层满足如下公式:

λ=2(n1d1+n2d2),其中,所述λ为激光波长,所述n1为所述第一反射层的材料折射系数,所述n2为所述第二反射层的材料折射系数,所述d1为所述第一反射层的膜层厚度,所述d2为所述第二反射层的膜层厚度。

6.根据权利要求5所述的OLED显示面板,其特征在于,所述激光波长大于280纳米并小于300纳米,所述第一反射层的材料折射系数大于1.4并小于1.6,所述第二反射层的材料折射系数大于1.9并小于2.1,所述第一反射层的膜层厚度大于1纳米并小于100纳米。

7.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述第一反射层和所述第二反射层的折射率差值大于或者等于0.2。

8.一种OLED显示面板的制作方法,其特征在于,包括:

步骤S10、提供一刚性基板,并在所述刚性基板上形成基板;

步骤S20、在所述基板上形成紫外反射层,所述紫外反射层包括至少一对层叠设置的第一反射层和第二反射层;

步骤S30、在所述紫外反射层上依次形成薄膜晶体管阵列、发光器件和封装层;

步骤S40、采用激光剥离技术剥离所述刚性基板;

其中,所述第一反射层和所述第二反射层的折射率不同,所述第一反射层与所述第二反射层满足如下公式:

λ=2(n1d1+n2d2),所述λ为反射光波长,所述n1为所述第一反射层的材料折射系数,所述n2为所述第二反射层的材料折射系数,所述d1为所述第一反射层的膜层厚度,所述d2为所述第二反射层的膜层厚度。

9.根据权利要求8所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述步骤S20还包括:

在形成所述紫光反射层的同时,在所述第一反射层与所述第二反射层之间形成补充基板,所述补充基板的制备材料与所述基板的制备材料相同。

10.根据权利要求9所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,步骤S20还包括:在所述紫外反射层上设置所述补充基板。

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