[发明专利]一种污染后的全氟磺酸质子膜的清洗方法在审
| 申请号: | 201810798101.6 | 申请日: | 2018-07-19 |
| 公开(公告)号: | CN109037737A | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
| 发明(设计)人: | 杨胜科;李恒俊;罗梦雅;陈阳阳;张丹;杨春艳 | 申请(专利权)人: | 长安大学 |
| 主分类号: | H01M8/04223 | 分类号: | H01M8/04223;H01M8/102 |
| 代理公司: | 西安创知专利事务所 61213 | 代理人: | 谭文琰 |
| 地址: | 710064 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 全氟磺酸 质子膜 清洗剂 清洗 污染 浸泡 水混合均匀 蒸馏水冲洗 电导率 磺酸基团 质子迁移 自然风干 浸没 亲水 冲洗 废品 配制 污染物 取出 溶解 再生 恢复 | ||
1.一种污染后的全氟磺酸质子膜的清洗方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
步骤一、将酸和水混合均匀后配制成清洗剂;所述酸为HCl、H2SO4、CH3COOH、或者HCl和H2SO4形成的混合酸,所述清洗剂中酸的质量分数为2%~7%;
步骤二、将污染后的全氟磺酸质子膜完全浸没于步骤一中配制得到的清洗剂中浸泡,然后取出后用蒸馏水冲洗至中性;所述浸泡的温度为60℃~80℃;
步骤三、将步骤二中经冲洗后的全氟磺酸质子膜在室温下自然风干,得到清洗后的全氟磺酸质子膜。
2.根据权利要求1所述的一种污染后的全氟磺酸质子膜的清洗方法,其特征在于,步骤一所述酸为HCl和H2SO4形成的混合酸,所述清洗剂中HCl的质量分数为4%,H2SO4的质量分数为3%。
3.根据权利要求1所述的一种污染后的全氟磺酸质子膜的清洗方法,其特征在于,步骤二中所述浸泡的时间为12h~36h。
4.根据权利要求1所述的一种污染后的全氟磺酸质子膜的清洗方法,其特征在于,步骤二所述浸泡的温度为75℃,浸泡的时间为24h。
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