[发明专利]光学滤波器有效
| 申请号: | 201810776179.8 | 申请日: | 2018-07-16 |
| 公开(公告)号: | CN109298477B | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
| 发明(设计)人: | 詹姆斯·斯维泽三世;乔治·J·欧肯法斯 | 申请(专利权)人: | 唯亚威通讯技术有限公司 |
| 主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20 |
| 代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 张瑞;杨明钊 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 滤波器 | ||
1.一种带通滤波器,包括:
一组层,包括:
第一子集层,
所述第一子集层是具有第一折射率的氢化锗;以及
第二子集层,
所述第二子集层包括具有第二折射率的材料,
所述第二折射率小于所述第一折射率,以及
所述材料包括以下中的至少一种:
二氧化硅材料,
氧化铝材料,
二氧化钛材料,
五氧化二铌材料,
五氧化二钽材料,或
氟化镁材料,
其中,在大约1550纳米的波长下,所述第一折射率大于4.2。
2.如权利要求1所述的带通滤波器,其中,所述第一子集层是高折射率层H,并且所述第二子集层是低折射率层L;以及
其中,所述一组层以下列项中的至少一项进行布置:
(H-L)m阶,
(H-L)m-H阶,
(L-H)m阶,或
L-(H-L)m阶,
其中,m是交替的H层和L层的数量。
3.如权利要求1所述的带通滤波器,其中,所述一组层被配置为使与在1100纳米至2000纳米之间的光谱范围相关联的阈值部分的光通过。
4.如权利要求1所述的带通滤波器,其中,所述一组层被配置为使与在1400纳米至2000纳米之间的光谱范围相关联的阈值部分的光通过。
5.如权利要求1所述的带通滤波器,其中,所述一组层被配置为使与具有大约1550纳米的中心波长的光谱范围相关联的阈值部分的光通过。
6.如权利要求1所述的带通滤波器,其中,所述第一子集层与消光系数相关联,该消光系数在以大约1550纳米为中心的光谱范围处小于0.01。
7.如权利要求1所述的带通滤波器,其中,在1100纳米至2000纳米的光谱范围处,所述第二折射率小于3。
8.如权利要求1所述的带通滤波器,其中,对于从0度到40度的入射角,光谱范围的中心波长的变化小于40纳米。
9.如权利要求1所述的带通滤波器,其中,对于从0度到40度的入射角,光谱范围的中心波长的变化小于30纳米。
10.如权利要求1所述的带通滤波器,其中,对于从0度到30度的入射角,光谱范围的中心波长的变化小于20纳米。
11.如权利要求1所述的带通滤波器,其中,对于从0度到20度的入射角,光谱范围的中心波长的变化小于10纳米。
12.一种光学滤波器,包括:
基底;以及
一组交替的高折射率层和低折射率层,所述一组交替的高折射率层和低折射率层设置在所述基底上以对入射光进行滤波,
其中,所述光学滤波器被配置为使所述入射光中的在中心波长大约为1550纳米的光谱范围内的第一部分通过并且反射入射光的不在所述光谱范围内的第二部分,
所述高折射率层是氢化锗,以及
所述低折射率层是二氧化硅,
并且其中,在大约1550纳米的波长下,所述高折射率层的折射率大于4.2。
13.如权利要求12所述的光学滤波器,其中,使用溅射过程沉积所述高折射率层。
14.如权利要求12所述的光学滤波器,其中,所述高折射率层是退火的。
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