[发明专利]形成无规共聚物、层压体及图案的方法

权利要求书

1.用于形成图案的层压体，其包括：

基板，和

中性层，所述中性层形成于所述基板上且包含用于形成中性层的无规共聚物，其中所述无规共聚物包含由下述化学式1～3表示的结构单元，

[化学式1]

[化学式2]

[化学式3]

所述化学式1～3中，

所述R₁至R₈分别独立地为氢、卤素或C₁至C₁₀烃基，

所述L₁及L₂作为连接基团分别独立地为直接键、-C(＝O)-O-、C₁至C₂₀亚烃基或C₁至C₂₀卤代亚烃基，

所述R₉及R₁₀分别独立地为氢、卤素、C₁至C₁₀烃基、-NCO或-L₃-NCO，

所述R₉及R₁₀中的任一个为-NCO或-L₃-NCO，

所述L₃为C₁至C₁₀亚烃基，并且

分别以无规则排列的结构单元化学式1～3的摩尔比分别依次为m、n及l，所述m、n及l为满足0.2m0.9、0.2n0.9、0l0.4的有理数，以及

其中在所述中性层上形成嵌段共聚物的垂直取向层状相图案。

2.根据权利要求1所述的用于形成图案的层压体，其中，所述化学式1～3中，

所述R₁至R₈分别独立地为氢、卤素或C₁至C₁₀烷基，

所述L₁及L₂作为连接基团分别独立地为直接键、-C(＝O)-O-、C₁至C₁₀亚烷基、C₆至C₂₀亚芳基或C₆至C₂₀卤代亚芳基，

所述R₉及R₁₀分别独立地为氢、卤素、C₁至C₁₀烷基、-NCO或-L₃-NCO，

所述R₉及R₁₀中的任一个为-NCO或-L₃-NCO，

所述L₃为C₁至C₁₀亚烷基。

3.根据权利要求1所述的用于形成图案的层压体，其中，所述化学式3中，

所述L₁作为连接基团为直接键，所述L₂作为连接基团为-C(＝O)-O-，

所述R₉为氢或C₁至C₁₀烷基，所述R₁₀为-NCO或-L₃-NCO，所述L₃为C₁至C₁₀亚烷基。

4.根据权利要求1所述的用于形成图案的层压体，其中，所述化学式3中，

所述L₁作为连接基团为直接键，所述L₂作为连接基团为C₆至C₂₀亚芳基，

所述R₉为氢或C₁至C₁₀烷基，所述R₁₀为-NCO或-L₃-NCO，所述L₃为C₁至C₁₀亚烷基。