[发明专利]多孔型石墨烯/过渡金属硫属化合物薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201810752553.0 | 申请日： | 2018-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN109036877B | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 冯立纲;郁旭;裴晨刚 | 申请（专利权）人： | 扬州大学 |
| 主分类号： | H01G11/86 | 分类号： | H01G11/86;H01G11/24;H01G11/30;H01G11/36 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 邹伟红;刘海霞 |
| 地址： | 225000 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多孔 石墨 过渡 金属 化合物 薄膜 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.多孔型石墨烯/过渡金属硫属化合物薄膜的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：
将过渡金属硫属化合物分散液与石墨烯分散液混合均匀，真空抽滤，得到含水量为10％～20％的薄膜，冷冻干燥后，置于300～800℃下煅烧，得到多孔型石墨烯/过渡金属硫属化合物薄膜。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述的过渡金属硫属化合物选自二硫化钨、二硫化钼、二硒化钨、二硒化钼、二碲化钨或二碲化钼可剥离的二维层状材料。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述的过渡金属硫属化合物分散液的浓度为0.2～0.4mg/mL。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述的石墨烯分散液的浓度为5～20mg/mL。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述的过渡金属硫属化合物与石墨烯的摩尔比为1:2～2:1。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述的煅烧时间为1～3h。
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