[发明专利]电子设备的壳体及其制作方法、电子设备

权利要求书

1.一种电子设备的壳体，其特征在于，包括层叠设置的透明壳体本体、渐变色层、光油层、光学纹理层和光学镀膜层，其中，所述渐变色层包括层叠设置的第一透明颜色层和第二透明颜色层，且所述第一透明颜色层在所述透明壳体本体上的正投影完全覆盖所述第二透明颜色层在所述透明壳体本体上的正投影。

2.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述渐变色层进一步包括第三透明颜色层，且所述第一透明颜色层在所述透明壳体本体上的正投影完全覆盖所述第三透明颜色层在所述透明壳体本体上的正投影。

3.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述透明壳体本体由复合板材形成的。

4.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述渐变色层的厚度为12～20微米。

5.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述光油层和所述光学纹理层的厚度各自独立为8～12微米。

6.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述光学镀膜层包括层叠设置的第一子膜层、第二子膜层、第三子膜层和第四子膜层，其中，所述第一子膜层和所述第三子膜层由三氧化二铝形成，所述第二子膜层由铟形成，且所述第四子膜层由五氧化二钛形成。

7.根据权利要求6所述的壳体，其特征在于，所述第一子膜层的厚度为50～100纳米，所述第二子膜层的厚度为200～450纳米，所述第三子膜层的厚度为200～250nm，且所述第四子膜层的厚度为100～200纳米。

8.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，进一步包括图案层和面漆层，且所述面漆层的厚度为10～20微米。

9.一种制作电子设备的壳体的方法，其特征在于，包括以下步骤：

在透明壳体本体的一侧形成渐变色层；

在所述渐变色层远离所述透明壳体本体的一侧形成光油层；

在所述光油层远离所述透明壳体本体的一侧形成光学纹理层；

在所述光学纹理层远离所述透明壳体本体的一侧形成光学镀膜层；

其中，所述形成渐变色层的步骤包括在所述透明壳体本体的表面依次喷涂形成第一透明颜色层和第二透明颜色层，且所述第一透明颜色层在所述透明壳体本体上的正投影完全覆盖所述第二透明颜色层在所述透明壳体本体上的正投影。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述形成渐变色层的步骤进一步包括：

在所述第一透明颜色层的表面喷涂形成第三透明颜色层，且所述第一透明颜色层在所述透明壳体本体上的正投影完全覆盖所述第三透明颜色层在所述透明壳体本体上的正投影。

11.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述形成光油层的步骤包括：

在所述渐变色层远离所述透明壳体本体的表面，通过UV丝印的方法形成光油层。

12.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述形成光学纹理层的步骤包括：

在所述光油层远离所述透明壳体本体的表面，通过UV转印的方法形成光学纹理层。

13.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述光学镀膜层包括层叠设置的第一子膜层、第二子膜层、第三子膜层和第四子膜层，其中，所述第一子膜层和所述第三子膜层由三氧化二铝形成，所述第二子膜层由铟形成，且所述第四子膜层由五氧化二钛形成。

14.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，进一步包括：

在所述透明壳体本体的表面丝印形成图案层；

在所述光学镀膜层远离所述透明壳体本体的表面，通过喷涂形成面漆层。

15.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求1～8中任一项所述的壳体。