[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其用于对基板进行处理，其特征在于，

该基板处理装置包括：

处理容器，其用于容纳基板；

载置台，其用于在所述处理容器内载置基板；

处理气体供给部，其用于向所述处理容器内供给处理气体；

排气机构，其用于排出所述处理容器内的处理气体；以及

内壁，其包围所述载置台，

其中，所述内壁具有狭缝和分隔板，

所述分隔板构成为使所述处理容器内的处理气体在通过由所述分隔板限定的迂回路之后从所述狭缝排出，

所述内壁配置在比所述载置台的基板载置面靠下方的位置，

所述狭缝在所述内壁的侧面的比所述载置台的载置面靠下方的位置等间隔地设有多个，

所述分隔板配置在使得不能自所述内壁的中心看到所述狭缝的位置。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于

所述分隔板具有与所述内壁的内侧面平行的圆弧形状，

所述处理容器内的处理气体沿着所述内壁的周向在所述分隔板与所述内壁的内侧面之间流动。

3.一种基板处理装置，其用于对基板进行处理，其特征在于，

该基板处理装置包括：

处理容器，其用于容纳基板；

载置台，其设有多个，该载置台用于在所述处理容器内载置基板；

处理气体供给部，其用于向所述处理容器内供给处理气体；

排气机构，其用于排出所述处理容器内的处理气体；

分隔壁，其配置在所述处理容器内，该分隔壁以与各所述载置台的外周隔开间隔的方式独立地包围各所述载置台；

升降机构，其用于使所述分隔壁在退避位置与基板处理位置之间升降；以及

内壁，其配置在所述处理容器的底面且以与所述载置台的外周隔开间隔的方式独立地包围该载置台，

通过使所述分隔壁移动到所述基板处理位置，从而由所述分隔壁和所述内壁形成基板的处理空间，

在所述内壁上形成有狭缝，

经由所述狭缝进行所述处理空间内的处理气体的排气，

所述内壁配置在比所述载置台的基板载置面靠下方的位置，所述狭缝配置在所述内壁的侧面的比所述载置台的载置面靠下方的位置，通过将所述内壁固定到所述处理容器的底部来形成所述狭缝。