[发明专利]一种掩膜版及配向曝光方法

权利要求书

1.一种掩膜版，包括：平行设置的第一遮光板和第二遮光板以及固定第一遮光板和第二遮光板的控制平台，第一遮光板位于待配向基板的上方，第二遮光板位于第一遮光板的上方；其特征在于：所述控制平台带动第一遮光板和第二遮光板沿第一方向和第二方向同步运动，所述第一遮光板包括至少一个第一透光区，所述第一透光区包括沿第一方向等间距排列的多个第一透光单元所述第一透光单元的周围为第一遮光区，所述第二遮光板包括至少一个第二透光区，所述第二透光区包括沿第一方向等间距排列的多个第二透光单元，所述第二透光单元的周围为第二遮光区，所述第一方向和第二方向相互垂直。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于：所述第一遮光板的长度和第二遮光板的长度均不小于待配向基板的长度。

3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于：所述第一透光单元和第二透光单元与待配向基板的单行像素数量相同。

4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于：所述第一遮光区和第二遮光区均包括掩膜版信息区和尺规区。

5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于：所述第一遮光板包括沿第二方向等距离分布的多个第一透光区，每个每个第一透光区均包括沿第一方向等距离分布的多个第一透光单元；第二遮光板包括沿第二方向等距离分布的多个第二透光区，每个每个第二透光区均包括沿第一方向等距离分布的多个第二透光单元。

6.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于：所述第一透光单元和第二透光单元的宽度不小于待配向基板的像素宽度的一半。

7.一种利用权利要求1-6任一项所述掩膜版进行配向曝光的的方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤S11：比较待配向基板的像素宽度的一半与第一透光单元和第二透光单元的宽度大小；

步骤S121：当第一透光单元和第二透光单元的宽度等于待配向基板的像素宽度的一半时，则通过控制平台调整第一遮光板与第二遮光板完全重叠，进行步骤S13；

步骤S122：当第一透光单元和第二透光单元的宽度大于待配向基板的像素宽度的一半时，则通过控制平台调整第一遮光板，使得第一透光单元和第二透光单元部分重叠，重叠透光区的宽度等于待配向基板的像素宽度的一半，进行步骤S13；

步骤S123：当第一透光单元和第二透光单元的宽度小于待配向基板的像素宽度的一半时，更换第一透光单元和第二透光单元宽度更大的第一遮光板和第二遮光板，进行步骤S11；

步骤S13：让光源以一定角度通过重叠透光区对待配向基板的像素区域进行配向光照；

步骤S14：旋转基板180°，让光源通过重叠透光区对待配向基板的像素区域进行配向光照，对待配向基板的像素中未配向的一半进行反方向光配向，完成一行像素的配向操作；

步骤S15：通过控制平台带动第一遮光板二和第二遮光板延垂直方向同步运动，使得透光区域移动到下一行未配向的基板像素上方，重复步骤S13和S14，逐行完成待配向基板所有像素的配向工作。

8.根据权利要求7所述的配向曝光方法，其特征在于：所述光源为紫外光。