[发明专利]图案产生装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810575424.9 申请日: 2018-06-06
公开(公告)号: CN110501836A 公开(公告)日: 2019-11-26
发明(设计)人: 李元裕 申请(专利权)人: 扬明光学股份有限公司
主分类号: G02F1/1334 分类号: G02F1/1334;G02B27/42
代理公司: 31264 上海波拓知识产权代理有限公司 代理人: 杨波<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;TW
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摘要:
搜索关键词: 聚合物分散液晶 图案产生装置 电源供应器 相位信息 光路 光源 图案 组件电性 制造
【说明书】:

一种图案产生装置,包括光源、第一全像聚合物分散液晶组件、第二全像聚合物分散液晶组件和电源供应器。第一全像聚合物分散液晶组件,位于光源的光路下游,第一全像聚合物分散液晶组件设有第一相位信息的图案。第二全像聚合物分散液晶组件,位于第一全像聚合物分散液晶组件的光路下游,第二全像聚合物分散液晶组件设有第二相位信息的图案。电源供应器分别与第一全像聚合物分散液晶组件和第二全像聚合物分散液晶组件电性连接。本发明另提出一种图案产生装置的制造方法。

技术领域

本发明涉及一种图案产生装置及图案产生装置制造方法。

背景技术

关于求解物体表面的形貌,编码结构光被认为是可靠的技术。结构光指的是一些具有特定图案的光,从最简单的线,面到格状等更复杂的图形都有。基本原理就是将一个或多个结构光投射到对象或场景上,并从一个或多个视角取像。由于图案已被编码,取像的点和投射点之间的对应关系,可以很容易地找到。译码后的各点可以利用三角函数法求解物体的三维信息。应用实例包括目标深度量测、距离侦测、制造零件的检测、逆向工程、手势识别和三维地图的建立。

“背景技术”段落只是用来帮助了解本发明内容,因此在“背景技术”段落所揭露的内容可能包含一些没有构成所属技术领域中具有通常知识者所知道的习知技术。在“背景技术”段落所揭露的内容,不代表所述内容或者本发明一个或多个实施例所要解决的问题,在本发明申请前已被所属技术领域中具有通常知识者所知晓或认知。

发明内容

本发明的其他目的和优点可以从本发明实施例所揭露的技术特征中得到进一步的了解。

根据本发明的一个观点,提供一种图案产生装置,包括光源、第一全像聚合物分散液晶组件、第二全像聚合物分散液晶组件和电源供应器。第一全像聚合物分散液晶组件,位于光源的光路下游,第一全像聚合物分散液晶组件设有第一相位信息的图案。第二全像聚合物分散液晶组件,位于第一全像聚合物分散液晶组件的光路下游,第二全像聚合物分散液晶组件设有第二相位信息的图案。电源供应器分别与第一全像聚合物分散液晶组件和第二全像聚合物分散液晶组件电性连接。通过电源供应器提供电压给第一全像聚合物分散液晶组件或第二全像聚合物分散液晶组件其中之一,使光源发出的光线经过第一全像聚合物分散液晶组件,转换成对应于第一相位信息图案的第一图案影像光,或经过第二全像聚合物分散液晶组件,转换成对应于第二相位信息图案的第二图案影像光,投射到待测物上。

根据本发明的另一个观点,提供一种图案产生装置,包括光源、可在绕射状态和非切换绕射状态切换的第一光栅、可在绕射状态和非切换绕射状态切换的第二光栅、全像光学组件和电源供应器。第一光栅,位于光源的光路下游。第二光栅,位于第一光栅的光路下游。全像光学组件,位于第二光栅的光路下游,全像光学组件设有分别对应于第一图案和第二图案的第一相位信息的图案和第二相位信息的图案。电源供应器分别与第一光栅和第二光栅电性连接。通过电源供应器提供电压给第一光栅或第二光栅其中之一,使光源发出的光线经过第一光栅或第二光栅,被转折第一角度或第二角度入射到全像光学组件,再转换成带有第一图案或第二图案的影像光,投射到待测物上。

根据本发明的又一个观点,提供一种图案产生装置,包括光源、光阀、可在绕射状态和非切换绕射状态切换的第一光栅、可在绕射状态和非切换绕射状态切换的第二光栅、投影透镜组和电源供应器。光阀,位于光源的光路下游。第一光栅,位于光阀的光路下游。第二光栅,位于第一光栅的光路下游。投影透镜组,位于第二光栅的光路下游。电源供应器分别与第一光栅和第二光栅电性连接。光源发出的光线经过光阀,转换成带有图案的影像光,通过电源供应器提供电压给第一光栅或第二光栅其中之一,使影像光离开第一光栅或第二光栅时,被转折第一角度或第二角度,再透过投影透镜组,投射到待测物上。

本发明实施例的一种图案产生装置,可提供一个光线相对准直、低功耗、低成本并可产生周期性图案的光学装置,进而扩大结构光可以应用的领域。

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