[发明专利]一种用于防止纳米通道键合密封堵塞的填充阻隔器

权利要求书

1.一种用于防止纳米通道键合密封堵塞的填充阻隔器，其特征在于，该填充阻隔器为一个嵌入基底的用于分流填充量的凹槽结构，位于键合胶层填充沟槽结构时所产生的膨胀中心线的中心位置。

2.根据权利要求1所述的用于防止纳米通道键合密封堵塞的填充阻隔器，其特征在于，所述的膨胀中心线为：与键合胶层膨胀方向垂直、穿过膨胀方向高度中心点的一条线段。

3.根据权利要求1所述的用于防止纳米通道键合密封堵塞的填充阻隔器，其特征在于，当沟槽结构为相互平行的多个矩形沟槽时，此时产生一条膨胀中心线，则填充阻隔器也采用相平行的矩形沟槽，且填充阻隔器宽度大于沟槽结构宽度。

4.根据权利要求1所述的用于防止纳米通道键合密封堵塞的填充阻隔器，其特征在于，当沟槽结构为复杂结构时，即此时产生多条不同方向的膨胀中心线，则填充阻隔器设置于所有沟槽结构的中心位置。

5.根据权利要求1所述的用于防止纳米通道键合密封堵塞的填充阻隔器，其特征在于，所述的填充阻隔器采用圆形的凹槽结构。

6.根据权利要求1或3或4所述的用于防止纳米通道键合密封堵塞的填充阻隔器，其特征在于，所述的沟槽结构为微纳通道。