[发明专利]一种气体放电反应器、气体放电系统及三氯氢硅的制备方法

权利要求书

1.一种气体放电系统，其特征在于，包括配气装置、稀有气体循环装置、尾气处理装置和气体放电反应器，所述气体放电反应器，包括内电极、外电极、第一电介质和第二电介质，所述外电极设置于所述内电极外，所述第二电介质设置于所述外电极内，所述第一电介质设置于所述内电极和所述外电极之间，所述内电极与所述第一电介质之间形成稀有气体放电腔室，所述第一电介质与所述外电极之间形成物料气放电腔室，所述气体放电反应器具有物料气进口和物料气出口，所述物料气进口和所述物料气出口均设置于所述外电极且连通所述物料气放电腔室；

所述配气装置包括氢气储罐、四氯化硅储罐、气化器以及缓冲罐，所述氢气储罐和四氯化硅储罐均与所述缓冲罐连通，所述缓冲罐与所述气化器和所述物料气进口连通，所述稀有气体循环装置连通所述稀有气体放电腔室的两端，所述尾气处理装置连通所述物料气出口。

2.根据权利要求1所述的气体放电系统，其特征在于，所述外电极和所述第一电介质均为圆环形。

3.根据权利要求2所述的气体放电系统，其特征在于，所述内电极为圆环形。

4.根据权利要求3所述的气体放电系统，其特征在于，所述内电极与所述外电极之间的距离为1mm－20mm。

5.根据权利要求4所述的气体放电系统，其特征在于，所述内电极与所述外电极之间的距离为3mm－9mm。

6.根据权利要求3所述的气体放电系统，其特征在于，所述内电极与所述第一电介质的距离为0.5mm－5mm。

7.根据权利要求6所述的气体放电系统，其特征在于，所述内电极与所述第一电介质的距离为1mm－1.5mm。

8.根据权利要求3所述的气体放电系统，其特征在于，所述内电极和所述外电极均为金属材料。

9.根据权利要求8所述的气体放电系统，其特征在于，所述内电极和所述外电极均为Cu。

10.根据权利要求6所述的气体放电系统，其特征在于，所述第一电介质为透明绝缘材料，所述第二电介质为不透明绝缘材料。

11.根据权利要求10所述的气体放电系统，其特征在于，所述第一电介质为石英，所述第二电介质为氧化锆、氧化铝或氮化硅。

12.根据权利要求1所述的气体放电系统，其特征在于，所述物料气出口处设置有测温腔，所述测温腔的腔壁上设置有测温器。

13.一种使用权利要求1－12任一项所述的气体放电系统制备三氯氢硅的方法，其特征在于，所述方法包括：

将所述四氯化硅储罐内的四氯化硅与所述氢气储罐内的氢气在所述缓冲罐内混合以后得到物料气通过所述物料气进口通入所述物料气放电腔室内，将两种稀有气体组成的混合气通入所述稀有气体放电腔室内，在激励电压为5－12kV，激励频率为0.5kHz－30KHz的条件下反应后，所述稀有气体组成的混合气进入所述稀有气体循环装置内，所述物料气通过所述物料气出口进入所述尾气处理装置内。