[发明专利]一种光刻掩模板系统在审
| 申请号: | 201810462327.9 | 申请日: | 2018-05-15 |
| 公开(公告)号: | CN108873600A | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
| 发明(设计)人: | R·琼科赫瑞;C·惠耿巴尔特;E·加拉赫 | 申请(专利权)人: | IMEC非营利协会;IMEC美国纳米电子设计中心 |
| 主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62;G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 江磊;郭辉 |
| 地址: | 比利*** | 国省代码: | 比利时;BE |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 防尘薄膜 掩模板 光刻 可拆卸 | ||
1.一种光刻掩模板系统(100),其包括:
掩模板(104),
安装在掩模板(104)前的第一防尘薄膜(112),以及
安装在第一防尘薄膜(112)前的第二防尘薄膜(122),
其中,第一防尘薄膜(112)设置在掩模板(104)和第二防尘薄膜(122)之间,并且
其中,第二防尘薄膜(122)相对于第一防尘薄膜(112)和掩模板(104)可拆卸地安装。
2.如权利要求1所述的系统,所述系统还包括:支撑第一防尘薄膜(112)的第一防尘薄膜框(114),第一防尘薄膜框(114)安装在掩模板(102)上。
3.如权利要求1所述的系统,所述系统还包括:支撑第二防尘薄膜(122)的第二防尘薄膜框(124),第二防尘薄膜框(124)相对于第一防尘薄膜(112)和掩模板(104)可拆卸地安装。
4.如权利要求3所述的系统,所述系统还包括:掩模板载体(102),其中,掩模板(104)设置在掩模板载体(102)上,并且第二防尘薄膜框(124)相对于掩模板载体(102)可拆卸地安装于其上。
5.如权利要求3所述的系统,其特征在于,第二防尘薄膜框(124)相对于支撑第一防尘薄膜(112)的第一防尘薄膜框(114)可拆卸地安装于其上。
6.如权利要求5所述的系统,其特征在于,第二防尘薄膜框(124)设置为与第一防尘薄膜框(114)的外侧壁表面邻接。
7.如权利要求5所述的系统,其特征在于,第二防尘薄膜框(124)设置在第一防尘薄膜框(114)的顶部表面上。
8.如权利要求3至7中任一项所述的系统,其特征在于,第二防尘薄膜框(124)包括适用于与第一防尘薄膜框(114)的机械耦合元件(129)或支撑掩模板(104)的掩模板载体(102)的机械耦合元件(129)进行可拆卸衔接的机械耦合元件(129)。
9.如权利要求3至7中任一项所述的系统,其特征在于,第二防尘薄膜框(124)包括适用于与第一防尘薄膜框(114)的磁性耦合元件(129)或与适用于支撑掩模板(104)的掩模板载体(102)的磁性耦合元件(129)进行磁性耦合的磁性耦合元件(129)。
10.如前述权利要求中任一项所述的系统,其特征在于,第二防尘薄膜框(124)包括气体进口(126)。
11.根据前述权利要求中任一项所述的系统,其特征在于,第一防尘薄膜(112)和第二防尘薄膜(122)间隔一定距离。
12.一种光刻曝露工具(200),其包括:
光源(206),
基材载体(202),
如前述权利要求任一项所述的掩模板系统(100),以及
光学系统(210),用于将来自光源的光经由掩模板系统的掩模板导向基材载体。
13.如权利要求12所述的光刻曝露工具,其特征在于,光源是远紫外光源。
14.一种用于交换如权利要求12至13中任一项所述的光刻曝露工具的防尘薄膜的方法,所述方法包括:
将掩模板(104)、第一防尘薄膜(112)和第二防尘薄膜(122)从光刻曝露工具(200)上卸下,
将在第一防尘薄膜(112)前的第二防尘薄膜(122)移除,其中,第一防尘薄膜(112)保留在掩模板(104)上,
将第三防尘薄膜(132)可拆卸地安装在第一防尘薄膜(112)前,以及
将掩模板(104)、第一防尘薄膜(112)和第三防尘薄膜(132)加载到光刻曝露工具(200)中。
15.一种用于在如权利要求12至13中任一项所述的光刻曝露工具内交换防尘薄膜的方法,所述方法包括:
将在第一防尘薄膜(112)前的第二防尘薄膜(122)移除,其中,第一防尘薄膜(112)保留在掩模板(104)上,以及
将第三防尘薄膜(132)可拆卸地安装在第一防尘薄膜(112)前。
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