[发明专利]基板清洗设备

权利要求书

1.一种基板清洗设备，其特征在于，包括水洗处理室(1)、传送机构(2)及清洗水供给机构(3)；

其中，所述水洗处理室(1)包括在基板(5)传送方向上依次并列排布的置换水洗室(11)和直接水洗室(12)；

所述传送机构(2)用于传送基板(5)并贯穿所述置换水洗室(11)和直接水洗室(12)；

所述清洗水供给机构(3)用于向被传送的所述基板(5)供给清洗水，所述清洗水供给机构(3)包括用于向基板(5)表面喷淋清洗水的多个喷淋管(31)及用于向所述多个喷淋管(31)输送清洗液的送液单元(32)；

所述直接水洗室(12)内底部设有分隔构件(15)，所述分隔构件(15)为框形，所述分隔构件(15)在所述直接水洗室(12)内划分出对应于所述分隔构件(15)内的位于中部的直接水洗区域(121)及对应于所述分隔构件(15)外的位于所述直接水洗区域(121)外围的过渡水洗区域(122)；

所述直接水洗室(12)在直接水洗区域(121)底部和过渡水洗区域(122)底部分别设有第一回收孔(123)和第二回收孔(124)，所述置换水洗室(11)底部设有第三回收孔(113)；

所述送液单元(32)具有用于回收清洗水的直接水循环水箱(321)和置换水循环水箱(322)；

所述直接水洗室(12)在直接水洗区域(121)内已使用过的清洗水通过第一回收孔(123)被分配至直接水循环水箱(321)；

所述直接水洗室(12)在过渡水洗区域(122)内已使用过的清洗水通过第二回收孔(124)被选择性分配至直接水循环水箱(321)或置换水循环水箱(322)；

所述置换水洗室(11)内已使用过的清洗水通过第三回收孔(113)被分配至置换水循环水箱(322)；

所述送液单元(32)将所述直接水循环水箱(321)内回收的清洗水供给给所述多条喷淋管(31)中的一部分以对基板(5)进行清洗，所述送液单元(32)将纯水作为清洗水供给给所述多条喷淋管(31)中的另一部分以对基板(5)进行清洗。

2.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述传送机构(2)具有用于承载基板(5)的承载面，设所述传送机构(2)对基板(5)传送的方向为第一方向(X)，与所述第一方向(X)垂直且与所述传送机构(2)的承载面平行的方向为第二方向(Y)，所述传送机构(2)的承载面在沿第二方向(Y)上相对于水平面逐渐降低而呈倾斜状，从而对基板(5)进行倾斜式传送。

3.如权利要求2所述的基板清洗设备，其特征在于，所述传送机构(2)的承载面相对于水平面倾斜的角度为10-20°。

4.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述分隔构件(15)在直接水洗室(12)内位于所述传送机构(2)下方，且所述分隔构件(15)的高度不影响其上方的传送机构(2)的运转。

5.如权利要求2所述的基板清洗设备，其特征在于，所述多个喷淋管(31)包括设于所述置换水洗室(11)内的多个置换水喷淋管(311)及设于所述直接水洗室(12)内在基板(5)传送方向上依次并列排布的多个过渡喷淋管(312)和多个直接水喷淋管(313)；

所述送液单元(32)将所述直接水循环水箱(321)内回收的清洗水供给给所述置换水喷淋管(311)及过渡喷淋管(312)以对基板(5)进行清洗，所述送液单元(32)将纯水作为清洗水供给给所述直接水喷淋管(313)以对基板(5)进行清洗。

6.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述送液单元(32)在将所述直接水循环水箱(321)内的清洗水传送给所述置换水喷淋管(311)及过渡喷淋管(312)的传送通路上设有过滤器(325)。

7.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述送液单元(32)设有将纯水传送至所述直接水循环水箱(321)的传送通路以对从所述直接水洗室(12)回收的清洗水进行稀释。