[发明专利]一种石料水循环雕刻系统

权利要求书

1.一种石料水循环雕刻系统，包括废料处理箱(9)，其特征在于：所述废料处理箱(9)的底部四角处安装万向轮(1)；所述废料处理箱(9)的其中一个内侧壁固定连接第二挡板(6)，且位于所述第二挡板(6)的一侧的所述废料处理箱(9)的内侧壁固定连接第三挡板(13)；所述废料处理箱(9)的另一个内侧壁安装第一挡板(5)；所述废料处理箱(9)的内部固定连接第四挡板(14)；所述第一挡板(5)、所述第二挡板(6)、第三挡板(13)和所述第四挡板(14)的内侧壁开设滑轨(12)，且所述第一挡板(5)、所述第二挡板(6)、所述第三挡板(13)和所述第四挡板(14)的内侧壁的内部均滑动连接过滤网(7)；所述过滤网(7)穿过所述废料处理箱(9)的侧面，且所述过滤网(7)与安装板(8)固定连接；所述安装板(8)的侧面开设观察窗(10)，且所述安装板(8)的侧面设有把手(2)；所述废料处理箱(9)的内部安装水泵(15)，且所述废料处理箱(9)的侧面设有所述出水管(11)，且所述水泵(15)与所述出水管(11)连接；所述废料处理箱(9)的另有一侧面固定连接支撑板(4)，且所述支撑板(4)的底面开设放置槽(17)；所述支撑板(4)的内部开设滑槽(16)；所述放置槽(17)的内部卡合连接所述支撑架(3)；所述支撑架(3)的两侧设有限位柱(18)，且所述限位柱(18)滑动连接于所述滑槽(16)的内部。

2.根据权利要求1所述的一种石料水循环雕刻系统，其特征在于：所述支撑架(3)的顶面呈弧形机构，且所述支撑架(3)滑动连接于所述放置槽(17)的内部。

3.根据权利要求2所述的一种石料水循环雕刻系统，其特征在于：所述支撑架(3)的最大宽度等于所述放置槽(17)的最小长度，且所述支撑架(3)的长度小于所述放置槽(17)的长度。

4.根据权利要求1所述的一种石料水循环雕刻系统，其特征在于：所述第一挡板(5)、所述第二挡板(6)、所述第三挡板(13)均倾斜设置于所述废料处理箱(9)的内侧壁，且所述第二挡板(6)与所述第三挡板(13)平行，且所述第三挡板(13)与所述第一挡板(5)之间的角度大于90°。

5.根据权利要求1所述的一种石料水循环雕刻系统，其特征在于：所述第四挡板(14)位于所述第三挡板(13)的底部，且所述第三挡板(13)的最大长度等于所述废料处理箱(9)的最小内径。

6.根据权利要求1所述的一种石料水循环雕刻系统，其特征在于：所述废料处理箱(9)呈长方体结构，且所述水泵(15)位于所述废料处理箱(9)的底部，且位于所述第四挡板(14)的底部的废料处理箱(9)封闭。