[发明专利]压力计组件及真空干刻蚀装置在审
| 申请号: | 201810373943.7 | 申请日: | 2018-04-24 |
| 公开(公告)号: | CN108896239A | 公开(公告)日: | 2018-11-27 |
| 发明(设计)人: | 张桂军 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号: | G01L19/00 | 分类号: | G01L19/00;H01J37/305 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 钟子敏 |
| 地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 压力计 气动阀 传输管道 压力计组件 干刻蚀装置 一端连接 转角 刻蚀 申请 连通 堵塞 | ||
本申请公开了一种压力计组件及真空干刻蚀装置,本申请的压力计组件包括传输管道;第一气动阀,第一气动阀的一端与传输管道连接;第一压力计,第一压力计与第一气动阀的另一端连接,第一压力计在第一气动阀开启时与传输管道连通。通过将第一气动阀的一端与传输管道连接,另一端与第一压力计连接,能够降低与压力计连接的管道的转角数量,从而降低堵塞程度,进而提升压力计的精度以及刻蚀得到的产品的质量。
技术领域
本申请涉及干刻蚀技术领域,特别是涉及一种压力计组件及真空干刻蚀装置。
背景技术
干刻蚀为通过等离子体对金属薄膜进行刻蚀的技术,主要原理是利用电磁场对等离子体进行引导和加速,从而使等离子体轰击待刻蚀的金属薄膜。在刻蚀时,压力对刻蚀得到的金属线的线宽有较大影响,一般通过压力计实现对真空干刻蚀腔内的压力进行检测。
通过传输管道将压力计安装在真空干刻蚀腔上,现有技术中,因与压力计连接的管道的转角数量多使得干刻蚀过程中的生成物附着在压力计上,造成堵塞,影响压力计的精度,使压力计频繁出现偏移、压力不稳定。而定期对压力计进行校正归零会耗费人力工时,且频繁进行校正归零会降低压力计的使用寿命。
因此,有必要提出一种压力计组件及真空干刻蚀装置,以解决上述技术问题。
发明内容
本申请主要解决的技术问题是提供一种压力计组件及真空干刻蚀装置,通过压力计组件能减少与压力计连接的管道的转角数量,从而降低堵塞程度,进而提升压力计的精度以及刻蚀得到的产品的质量。
为了解决上述技术问题,本申请采用的第一个技术方案是提供一种压力计组件,该压力计组件包括:传输管道;第一气动阀,第一气动阀的一端与传输管道连接;第一压力计,第一压力计与第一气动阀的另一端连接,第一压力计在第一气动阀开启时与传输管道连通。
为了解决上述技术问题,本申请采用的第二个技术方案是提供一种真空干刻蚀装置,该真空干刻蚀装置包括压力计组件,压力计组件包括:传输管道;第一气动阀,第一气动阀的一端与传输管道连接;第一压力计,第一压力计与第一气动阀的另一端连接,第一压力计在第一气动阀开启时与传输管道连通。
本申请的有益效果是:区别于现有技术的情况,本申请的压力计组件包括传输管道;第一气动阀,第一气动阀的一端与传输管道连接;第一压力计,第一压力计与第一气动阀的另一端连接,第一压力计在第一气动阀开启时与传输管道连通。通过将第一气动阀的一端与传输管道连接,另一端与第一压力计连接,能够降低与压力计连接的管道的转角数量,从而降低堵塞程度,进而提升压力计的精度以及刻蚀得到的产品的质量。
附图说明
图1是现有技术中压力计组件的结构示意图;
图2是本申请提供的压力计组件第一实施方式的结构示意图;
图3是本申请提供的压力计组件第二实施方式的结构示意图;
图4是本申请提供的压力计组件第三实施方式的结构示意图;
图5是本申请提供的真空干刻蚀装置一实施方式的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,均属于本申请保护的范围。
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