[发明专利]电容式隔膜真空计及干刻蚀设备腔体压力测试系统

权利要求书

1.一种电容式隔膜真空计，其特征在于，包括：相邻的第一腔室(11)和第二腔室(12)、设于所述第一腔室(11)和第二腔室(12)之间的压力隔膜(13)、设于所述第一腔室(11)中的测量电极(14)、设于所述第一腔室(11)中并与测量电极(14)间隔设置的参考电极(15)以及设于所述第二腔室(12)中的过滤网(16)；

所述第二腔体(12)用于通入干刻蚀设备腔体的气体；

所述过滤网(16)用于吸附干刻蚀设备腔体的制程副产物以及腔体污染物。

2.如权利要求1所述的电容式隔膜真空计，其特征在于，还包括设于所述第二腔室(12)中并位于压力隔膜(13)与过滤网(16)之间的加热电路(17)。

3.如权利要求1所述的电容式隔膜真空计，其特征在于，所述过滤网(16)的材料为聚四氟乙烯。

4.如权利要求1所述的电容式隔膜真空计，其特征在于，所述压力隔膜(13)的材料为铬镍铁合金。

5.如权利要求1所述的电容式隔膜真空计，其特征在于，所述压力隔膜(13)的厚度为10um～90um。

6.一种干刻蚀设备腔体压力测试系统，其特征在于，包括：腔体(100)、与所述腔体(100)连接的气体管道(200)、设于所述气体管道(200)上的压力调节器(300)、以及与所述气体管道(200)连接并与压力调节器(300)电性连接的如权利要求1所述的电容式隔膜真空计(400)；

所述电容式隔膜真空计(400)用于测试腔体(100)内的真空压力值，并反馈给压力调节器(300)；

所述压力调节器(300)用于对腔体(100)内的真空压力值进行调节。

7.如权利要求6所述的干刻蚀设备腔体压力测试系统，其特征在于，还包括与所述气体管道(200)端部连接的真空泵(500)。

8.如权利要求6所述的干刻蚀设备腔体压力测试系统，其特征在于，还包括设于所述气体管道(200)上并位于腔体(100)与压力调节器(300)之间的隔离阀(600)。