[发明专利]一种单晶硅坩埚在审
| 申请号： | 201810359593.9 | 申请日： | 2018-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN108396372A | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 周俭 | 申请（专利权）人： | 周俭 |
| 主分类号： | C30B15/10 | 分类号： | C30B15/10;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京元中知识产权代理有限责任公司 11223 | 代理人： | 王明霞 |
| 地址： | 美国俄勒冈*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 坩埚 单晶硅 侧壁 碳复合材料 石英坩埚 硅熔体 加热器 热量传递 温度梯度 有效控制 逐渐增大 坩埚侧壁 侧壁孔 发热体 体内部 盛放 连通 对流 配置 | ||
1.一种单晶硅坩埚，包括
坩埚部(1)本体，配置为盛放石英坩埚；
其特征在于：所述坩埚部(1)包括
孔单元(2)，设置于坩埚部(1)本体的侧壁，连通坩埚部(1)的内外空间；
孔单元(4)在第二坩埚单元(3)圆周方向上所占的比例，自坩埚部(1)底部一侧向另一侧逐渐增大。
2.根据权利要求1所述的一种单晶硅坩埚，其特征在于：所述坩埚部(1)由碳-碳复合材料制成。
3.根据权利要求2所述的一种单晶硅坩埚，其特征在于：所述坩埚部(1)壁厚为6mm至15mm。
4.根据权利要求1所述的一种单晶硅坩埚，其特征在于：所述坩埚部(1)包括至少两部分的瓣体围成。
5.根据权利要求1所述的一种单晶硅坩埚，其特征在于：所述孔单元(4)为设置于第二坩埚单元(3)的圆形或椭圆形孔状结构。
6.根据权利要求1所述的一种单晶硅坩埚，其特征在于：所述孔单元(4)为设置于第二坩埚单元(3)的多边形通孔结构。
7.根据权利要求1-6任一所述的一种单晶硅坩埚，其特征在于：所述孔单元(4)在第二坩埚单元(3)圆周方向上的数量，自坩埚部(1)底部一侧向另一侧逐渐增多。
8.根据权利要求1-6任一所述的一种单晶硅坩埚，其特征在于：所述孔单元(4)在第二坩埚单元(3)轴向方向上、自坩埚部(1)底部一侧向另一侧，彼此之间的距离逐渐减小。
9.根据权利要求1-6任一所述的一种单晶硅坩埚，其特征在于：所述孔单元(4)沿第二坩埚单元(3)轴线方向，其尺寸自坩埚部(1)底部一侧向另一侧逐渐增大。
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