[发明专利]聚L-赖氨酸/天冬氨酸复合修饰的电极及其制备方法和应用

权利要求书

1.聚L-赖氨酸/天冬氨酸复合修饰的电极，其特征在于，所述电极的表面修饰有聚L-赖氨酸/天冬氨酸复合物。

2.制备权利要求1所述的聚L-赖氨酸/天冬氨酸复合修饰的电极的方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）将预处理后的电极置于浓度为1.0×10^-3 mol/L ~ 8.0×10^-3 mol/L L-赖氨酸的PBS溶液中，于扫描电位-0.7～2.2V、扫描速度80 mV/s ~ 120 mV/s下，循环扫描，淋洗、晾干，得聚L-赖氨酸修饰的电极；

2）将步骤1）聚L-赖氨酸修饰的电极置于单体浓度为1.0×10^-3 mol/L~8.0×10^-3 mol/L天冬氨酸的PBS溶液中，于扫描电位- 1.0～1.5 V、扫描速度80 mv/s~120 mv/s下，循环扫描，淋洗、晾干，即得聚L-赖氨酸/天冬氨酸复合修饰的电极。

3.如权利要求2所述的制备聚L-赖氨酸/天冬氨酸复合修饰的电极的方法，其特征在于，步骤1）中PBS溶液的pH值为9.0，循环扫描12圈；步骤2）中PBS溶液的pH值为6.84，循环扫描15圈，步骤1）和2）淋洗时，采用的淋洗剂为二次蒸馏水。

4.如权利要求2所述的制备聚L-赖氨酸/天冬氨酸复合修饰的电极的方法，其特征在于，步骤1）电极的预处理方法：将电极依次用金相砂纸、粒度为0.05 μm 的Al₂O₃粉与水的混合物抛光，再依次用硝酸溶液、无水乙醇、二次蒸馏水超声清洗，自然晾干即可。

5.如权利要求2-4任一所述的制备聚L-赖氨酸/天冬氨酸复合修饰的电极的方法，其特征在于，所述电极为玻碳电极。

6.权利要求1所述的聚L-赖氨酸/天冬氨酸复合修饰的电极的应用，其特征在于，将修饰后的电极作为工作电极，与对电极和参比电极组成三电级体系，用于测定盐酸吡哆辛。

7.如权利要求6所述的聚L-赖氨酸/天冬氨酸复合修饰的电极的应用，其特征在于，所述对电极为铂柱电极，参比电极为饱和甘汞电极。

8.如权利要求7所述的聚L-赖氨酸/天冬氨酸复合修饰的电极的应用，其特征在于，以修饰后的电极作为工作电极，测定盐酸吡哆辛的方法为：

1）在含有不同浓度的盐酸吡哆辛的pH4.2的ABS溶液中，利用差分脉冲伏安法测定不同浓度的盐酸吡哆辛溶液的氧化峰电流；

2）绘制盐酸吡哆辛的氧化峰电流与浓度的线性关系图，计算出线性关系式；

3）根据氧化峰电流值计算得到待测盐酸吡哆辛溶液的浓度。

9.如权利要求8所述的聚L-赖氨酸/天冬氨酸复合修饰的电极的应用，其特征在于，差分脉冲伏安法的扫描电位0.6～1.4 V、扫描速度0.1 V /s。