[发明专利]曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，将形成在掩模上的图案经由投影光学系统向形成在工件上的多个拍摄区域依次转印，该曝光装置的特征在于，

上述多个拍摄区域在上述工件上沿着第1方向及与该第1方向不同的第2方向分别排列，

上述曝光装置具备：

第1检测部，将形成在上述工件上的、上述多个拍摄区域之中沿着上述第1方向排列的属于第1列的多个拍摄区域分别作为第1拍摄区域，分别检测与多个上述第1拍摄区域对应的校准标记；

第2检测部，将形成在上述工件上的、属于相对于上述第1列在上述第2方向上相邻的第2列的多个拍摄区域分别作为第2拍摄区域，分别检测与多个上述第2拍摄区域对应的校准标记；以及

控制部，控制上述多个拍摄区域的上述转印；

上述控制部，

针对在上述第2方向上相邻的属于一个行的上述第1拍摄区域和上述第2拍摄区域，沿着上述第1方向逐行依次反复进行下述的处理，所述处理为：同时进行由上述第1检测部对上述校准标记的检测和由上述第2检测部对上述校准标记的检测，基于上述第1检测部及上述第2检测部的检测结果，分别计算上述第1拍摄区域的位置信息及上述第2拍摄区域的位置信息并存储，接着，基于计算出的上述第1拍摄区域的位置信息，进行上述掩模与上述第1拍摄区域的对位，进行向上述第1拍摄区域的上述转印，

在进行了向属于上述第1列的全部上述第1拍摄区域的上述转印之后，基于存储的属于上述第2列的全部上述第2拍摄区域的上述位置信息，进行上述掩模与上述第2拍摄区域的对位，在上述第1方向上依次连续地进行向属于上述第2列的全部上述第2拍摄区域的上述转印。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

上述控制部在上述第2方向上相互相邻的各列间，沿上述第1方向上的相反方向依次进行上述转印。

3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

上述控制部，在进行了向属于上述第2列的全部上述第2拍摄区域的上述转印后，将相对于上述第2列在上述第2方向上的与上述第1列相反侧相邻的列新设定为上述第1列。

4.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

上述控制部，在新设定为上述第1列的列是上述第2方向上的最端部的列的情况下，仅进行由上述第1检测部对上述校准标记的检测，不进行由上述第2检测部对上述校准标记的检测。

5.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

上述第2拍摄区域是在上述第2方向上相邻的多个拍摄区域。

6.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

上述第1检测部，相对于上述投影光学系统的光轴被配置在上述第1方向上的一侧，

上述第2检测部，相对于上述第1检测部在上述第2方向上离开地配置。

7.一种曝光方法，将形成在掩模上的图案经由投影光学系统向形成在工件上的多个拍摄区域依次转印，该曝光方法的特征在于，

上述多个拍摄区域在上述工件上沿着第1方向及与该第1方向不同的第2方向分别排列，

上述曝光方法包括：

将形成在上述工件上的、上述多个拍摄区域之中沿着上述第1方向排列的属于第1列的多个拍摄区域分别作为第1拍摄区域；

将形成在上述工件上的、属于相对于上述第1列在上述第2方向上相邻的第2列的多个拍摄区域分别作为第2拍摄区域；

第1转印步骤，针对在上述第2方向上相邻的属于一个行的上述第1拍摄区域和上述第2拍摄区域，沿着上述第1方向逐行依次反复进行下述的处理，所述处理为：同时进行对应的校准标记的检测，基于上述校准标记的检测结果分别计算上述第1拍摄区域的位置信息及上述第2拍摄区域的位置信息并存储，接着，基于计算出的上述第1拍摄区域的位置信息，进行上述掩模和上述第1拍摄区域的对位，进行向上述第1拍摄区域的上述转印；

第2转印步骤，在进行了向属于上述第1列的全部上述第1拍摄区域的上述转印之后，基于在上述第1转印步骤中存储的属于上述第2列的全部上述第2拍摄区域的上述位置信息，进行上述掩模与上述第2拍摄区域的对位，在上述第1方向上依次连续地进行向属于上述第2列的全部上述第2拍摄区域的上述转印。