[发明专利]一种耐磨性能优异的光扩散膜及其制备方法

权利要求书

1.一种耐磨性能优异的光扩散膜，其特征在于，包括基材层、设置在基材层上表面的光扩散层、设置在基材层下表面的防粘连层，所述光扩散层包括以下按照重量份的原料：丙烯酸酯树脂60-65份、乙二醇二丙烯酸酯18-22份、聚二甲基硅氧烷0.7-1.1份、聚甲基丙烯酸甲酯微珠25-29份、纳米碳酸钙2-4份、聚异氰酸酯2-5份、三甲基十六烷基溴化铵1-2份；所述防粘连层包括以下按照重量份的原料：丙烯酸酯树脂70-80份、乙二醇二丙烯酸酯25-29份、聚苯乙烯19-23份、聚甲基丙烯酸甲酯微珠14-18份、聚异氰酸酯2-5份、芥酸酰胺1-2份。

2.根据权利要求1所述的耐磨性能优异的光扩散膜，其特征在于，所述光扩散层包括以下按照重量份的原料：丙烯酸酯树脂61-64份、乙二醇二丙烯酸酯19-21份、聚二甲基硅氧烷0.8-1.0份、聚甲基丙烯酸甲酯微珠26-28份、纳米碳酸钙2.5-3.5份、聚异氰酸酯3-4份、三甲基十六烷基溴化铵1.2-1.8份；所述防粘连层包括以下按照重量份的原料：丙烯酸酯树脂73-77份、乙二醇二丙烯酸酯26-28份、聚苯乙烯20-22份、聚甲基丙烯酸甲酯微珠15-17份、聚异氰酸酯3-4份、芥酸酰胺1.4-1.7份。

3.根据权利要求2所述的耐磨性能优异的光扩散膜，其特征在于，所述光扩散层包括以下按照重量份的原料：丙烯酸酯树脂63份、乙二醇二丙烯酸酯20份、聚二甲基硅氧烷0.9份、聚甲基丙烯酸甲酯微珠27份、纳米碳酸钙3份、聚异氰酸酯3.5份、三甲基十六烷基溴化铵1.5份；所述防粘连层包括以下按照重量份的原料：丙烯酸酯树脂75份、乙二醇二丙烯酸酯27份、聚苯乙烯21份、聚甲基丙烯酸甲酯微珠16份、聚异氰酸酯3.5份、芥酸酰胺1.6份。

4.根据权利要求1所述的耐磨性能优异的光扩散膜，其特征在于，所述丙烯酸酯树脂为聚氨酯丙烯酸酯或环氧丙烯酸酯。

5.根据权利要求1所述的耐磨性能优异的光扩散膜，其特征在于，所述基材层的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。

6.一种如权利要求1-5任一所述的耐磨性能优异的光扩散膜的制备方法，其特征在于，步骤如下：

1)准备基材层，备用；

2)按照光扩散层的配比，称取聚二甲基硅氧烷、纳米碳酸钙、聚异氰酸酯和三甲基十六烷基溴化铵，合并后，在500-700rpm下搅拌混合1-2h，然后送入超声处理器中，超声处理30-40min，出料，获得第一混合物；

3)按照光扩散层的配比，称取丙烯酸酯树脂、乙二醇二丙烯酸酯和聚甲基丙烯酸甲酯微珠，投入至反应釜中，搅拌混合后，获得第二混合物；

4)将第一混合物投入至第二混合物中，搅拌混合均匀后，获得第三混合物；

5)将第三混合物涂布在基材层上表面，在80-100℃下烘干处理50-60min，即可在基材层上表面形成光扩散层；

6)按照防粘连层的配比，称取丙烯酸酯树脂、乙二醇二丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯微珠、聚异氰酸酯和芥酸酰胺，投入至反应釜中，搅拌混合后，获得第四混合物；

7)将第四混合物涂布在基材层下表面，在90-110℃下烘干处理40-50min，即可在基材层下表面形成防粘连层。

7.根据权利要求6所述的耐磨性能优异的光扩散膜的制备方法，其特征在于，步骤2)中，所述超声处理频率为40-60kHz。

8.根据权利要求6所述的耐磨性能优异的光扩散膜的制备方法，其特征在于，步骤2)中，所述超声处理的水浴温度为50℃。

9.如权利要求1-5任一所述的光扩散膜在制备光扩散膜产品中的用途。