[发明专利]精密掩膜板的制作方法

说明书

本发明涉及一种精密掩膜板的制作方法，包括：提供掩膜基板；对所述掩膜基板进行全刻蚀，形成具有第一开孔图案的第一区域和具有第二开孔图案的第二区域；所述第二区域与所述第一区域的至少一侧连接；以及对所述第二区域内的开孔进行堵孔以形成非显示区，并将所述第一区域作为显示区。上述精密掩膜板的制作方法，在对显示区进行全刻蚀开孔的同时会对作为非显示区的第二区域也一并进行全刻蚀开孔，从而确保显示区各处应力均匀，进而减小显示区边缘褶皱，有效降低使用该精密掩膜板的显示器产生mura的概率。

技术领域

本发明涉及有机电致发光器件制造技术领域，特别是涉及一种精密掩膜板的制作方法。

背景技术

在有机电致发光显示器件的制造过程中，需要使用到精密掩膜板(Fine mask)。在精密掩膜板制作时，显示区一般采用全刻蚀，以蒸镀有机材料，其他区域则不是全刻蚀以限制显示区形状。通常在显示区附近会进行半刻蚀，以减小显示区边缘的褶皱。在部分处理过程中有些也不会对显示区附近的区域进行刻蚀。显示区全刻蚀和显示区边缘半刻蚀或者不刻蚀会使得两个区域在结构上存在差异，从而带来褶皱，进而使得显示器产生mura(显示器亮度不均匀，造成各种痕迹的现象)现象。

发明内容

基于此，有必要提供一种能够有效减少显示区边缘褶皱的精密掩膜板的制作方法。

一种精密掩膜板的制作方法，包括：

提供掩膜基板；

对所述掩膜基板进行全刻蚀，形成具有第一开孔图案的第一区域和具有第二开孔图案的第二区域；所述第二区域与所述第一区域的至少一侧连接；以及

对所述第二区域内的开孔进行堵孔以形成非显示区，并将所述第一区域作为显示区。

上述精密掩膜板的制作方法，在对显示区进行全刻蚀开孔的同时会对作为非显示区的第二区域也一并进行全刻蚀开孔，从而确保显示区各处应力均匀，进而减小显示区边缘褶皱，有效降低使用该精密掩膜板的显示器产生mura的概率。

在其中一个实施例中，在对所述掩膜基板进行全刻蚀时，是对所述掩膜基板进行双面刻蚀。

在其中一个实施例中，形成所述第一开孔图案的图案单元与形成所述第二开孔图案的图案单元相同。

在其中一个实施例中，在对所述第二区域的开孔进行堵孔时，是利用金属胶对所述第二区域内的开孔进行堵孔。

在其中一个实施例中，所述金属胶的延展性大于或等于所述掩膜基板的材质的延展性。

在其中一个实施例中，所述金属胶的熔点高于所述精密掩膜板的蒸镀温度。

在其中一个实施例中，所述利用金属胶对所述第二区域内的开孔进行堵孔的步骤中，形成的金属胶位于所述掩膜基板的两个平面之间。

在其中一个实施例中，还包括：

对所述第二区域内的堵孔状况进行检测；以及

在检测到所述金属胶上的任一点所在的平面超过所述掩膜基板的表面时，去除所述金属胶，重新对所述第二区域内的开孔进行堵孔。

在其中一个实施例中，在去除所述金属胶时，通过激光将所述金属胶去除。

在其中一个实施例中，所述掩膜基板的材料为合金。

附图说明

图1为一实施例中的精密掩膜板的制作方法的流程图；

图2为采用双面刻蚀后得到的掩膜基板的结构示意图；

图3为完成步骤S130后第二区域的示意图；

图4为另一实施例中的精密掩膜板的制作方法的局部流程图；