[发明专利]一种介质阵列开关

权利要求书

1.一种介质阵列开关，其特征在于，包括基座、设置在基座上由M*N根介质柱构成的介质阵列以及设置在介质阵列两侧的加热部件；M的取值范围为10～20，N的取值范围为8～16；介质阵列的介质柱之间具有遇热可熔的填充物；根据工作频率调整介质阵列的单元长度a；介质柱的高度h、介质柱的半径r以及介质阵列单元长度a三者之间满足a≤h≤8*r；

工作时，入射波从平行于基座的方向射入，对填充物进行加热；当加热温度达到填充物熔点时填充物熔化流出，使介质柱之间的间隙为环境气体所填充，使得介质柱柱体部分的介电常数发生变化，引起介质阵列开关对特定波段电磁波的透射率发生变化，构成光子带隙使得除所需波段外其他波段的电磁波无法通过，实现电磁波通过或被阻断的开关功能；通过调整介质阵列开关的阵列单元的长度a来移动光子带隙中心波长，以调整介质阵列开关禁带位置。

2.如权利要求1所述的介质阵列开关，其特征在于，介质柱之间的填充物采用石蜡、松香或柏油。

3.如权利要求1或2所述的介质阵列开关，其特征在于，所述介质柱采用介电常数为1.5～2.5的材料，采用特氟龙材料。

4.如权利要求1或2所述的介质阵列开关，其特征在于，所述加热部件采用板状结构。

5.如权利要求1所述的介质阵列开关，其特征在于，介质柱的高度h为10mm，介质阵列单元长度a为6mm，介质柱半径为2.5mm。

6.如权利要求5所述的介质阵列开关，其特征在于，加热部件高度高于介质柱，基底厚度为5～10mm。