[发明专利]触控显示基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种触控显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

形成触控电极走线，所述触控电极走线位于所述触控显示基板的显示区域内；

形成阳极和有机层；

形成多个相互绝缘的阴极，所述阴极复用为触控电极，所述阴极通过贯穿所述阴极和所述触控电极走线之间的膜层上的过孔，与所述触控电极走线连接，所述过孔位于所述触控显示基板的显示区域内；

所述形成触控电极走线的步骤包括：

形成触控电极走线和具有放电尖端的第一放电图形，所述触控电极走线和所述第一放电图形位于所述触控显示基板的显示区域内，每一所述触控电极走线与至少一个所述第一放电图形连接；

所述形成多个相互绝缘的阴极的步骤之前，还包括：

提供一放电基板，所述放电基板上包括具有放电尖端的第二放电图形，所述第二放电图形与所述第一放电图形一一对应设置；

对所述第二放电图形通电，使所述第二放电图形和所述第一放电图形之间放电，所述第一放电图形和所述第二放电图形之间的膜层被击穿形成所述过孔。

2.根据权利要求1所述的触控显示基板的制作方法，其特征在于，所述形成多个相互绝缘的阴极的步骤包括：

形成多个截面呈倒梯形结构的挡墙；

蒸镀形成整面的阴极层，所述阴极层在所述挡墙的边缘断裂，形成多个相互绝缘的阴极。

3.根据权利要求2所述的触控显示基板的制作方法，其特征在于，所述形成截面呈倒梯形结构的挡墙的步骤包括：

形成负性光刻胶材料层；

对所述负性光刻胶材料层进行曝光和显影，形成多个截面呈倒梯形结构的挡墙。

4.根据权利要求1所述的触控显示基板的制作方法，其特征在于，所述触控显示基板包括薄膜晶体管阵列层，所述形成触控电极走线和具有放电尖端的第一放电图形的步骤包括：

通过一次构图工艺形成所述薄膜晶体管阵列层的导电图形、所述触控电极走线和所述第一放电图形。

5.一种触控显示基板，其特征在于，采用如权利要求1-4任一项所述的制作方法制作而成，所述触控显示基板包括：

触控电极走线，位于所述触控显示基板的显示区域内；

阳极、有机层和多个相互绝缘的阴极，所述阴极复用为触控电极，所述阴极通过贯穿所述阴极和所述触控电极走线之间的膜层上的过孔，与所述触控电极走线连接，所述过孔位于所述触控显示基板的显示区域内；

具有放电尖端的第一放电图形，与所述触控电极走线同层同材料设置，每一所述触控电极走线与至少一个所述第一放电图形连接。

6.根据权利要求5所述的触控显示基板，其特征在于，还包括：

多个截面呈倒梯形结构的挡墙，所述挡墙围绕所述阴极设置。

7.根据权利要求6所述的触控显示基板，其特征在于，所述挡墙采用负性光刻胶形成。

8.一种触控显示装置，其特征在于，包括如权利要求5-7任一项所述的触控显示基板。