[发明专利]摩擦片、多片式离合器、双离合器装置和摩擦片制造方法

权利要求书

1.用于包含一个环形的基体（76）的多片式离合器（26）的摩擦片（38），所述基体具有一个包含多个锯齿（80）的齿部（78）用于和摩擦片支架（34）形成同步咬合以及具有至少一个硬化区域（96），所述基体（76）在所述硬化区域中的硬度高于在所述锯齿（80）的齿面区域（98、100）中的硬度，其特征在于，所述硬化区域（96）与所述锯齿（80）的齿面（90、92）间隔一定距离（b）进行安排。

2.根据权利要求1所述的摩擦片（38），其特征在于，所述硬化区域（96）与所述齿面（90、92）之间的距离（b）至少为3mm。

3.根据权利要求1或2所述的摩擦片（38），其特征在于，所述硬化区域（96）与所述锯齿（80）的齿根间隔一定距离（a）安排，和/或所述锯齿（80）在形成低于所述硬化区域（96）中的硬度的条件下进行硬化或者与所述硬化区域（96）相反不作硬化。

4.根据权利要求3所述的摩擦片（38），其特征在于，所述硬化区域（96）与所述齿根之间的距离（a）至少为3mm。

5.根据权利要求1或2所述的摩擦片（38），其特征在于，所述硬化区域（96）沿圆周方向（12、14）包裹所述基体（76）的正面和/或背面。

6.根据权利要求5所述的摩擦片（38），其特征在于，所述硬化区域（96）沿圆周方向（12、14）封闭地包裹所述基体（76）的正面和/或背面。

7.根据权利要求5所述的摩擦片（38），其特征在于，所述硬化区域（96）沿径向（8）延伸至分界环（102）。

8.根据权利要求7所述的摩擦片（38），其特征在于，所述分界环（102）沿相同的径向（8）与所述锯齿（80）的齿根环（104）间隔一定距离（a）进行安排。

9.根据权利要求8所述的摩擦片（38），其特征在于，所述分界环（102）与所述齿根环（104）之间的距离（a）至少为3mm。

10.根据权利要求9所述的摩擦片（38），其特征在于，所述分界环（102）与所述齿根环（104）之间的距离（a）最大为5mm。

11.根据权利要求10所述的摩擦片（38），其特征在于，所述分界环（102）与所述齿根环（104）之间的距离（a）最大为4mm。

12.根据权利要求11所述的摩擦片（38），其特征在于，所述分界环（102）与所述齿根环（104）之间的距离（a）最大为3.5mm。

13.根据权利要求1所述的摩擦片（38），其特征在于，所述齿部（78）为外齿部和/或所述基体（76）由金属制成或者组成和/或所述摩擦片（38）由无摩擦衬面的摩擦片（38）和/或钢摩擦片构成。

14.根据权利要求1所述的摩擦片（38），其特征在于，所述基体（76）在所述硬化区域（96）中进行表面硬化。

15.根据权利要求14所述的摩擦片（38），其特征在于，所述基体（76）在所述硬化区域（96）中通过气体渗氮或者气体氮碳共渗或者通过等离子渗氮或者等离子氮碳共渗进行表面硬化。

16.根据权利要求13所述的摩擦片（38），其特征在于，所述基体（76）由钢制成或者组成。