[发明专利]彩色滤光片基板及其制作方法

权利要求书

1.一种彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、提供衬底基板(10)，在所述衬底基板(10)上形成第一黑色矩阵(21)以及环绕所述第一黑色矩阵(21)的周边且与所述第一黑色矩阵(21)间隔设置的第二黑色矩阵(22)，所述第一黑色矩阵(21)包括框形遮光层(212)，所述框形遮光层(212)在所述衬底基板(10)上围出的区域为显示区(101)，所述衬底基板(10)位于所述显示区(101)外围的区域为非显示区(102)；

步骤2、在所述衬底基板(10)上形成彩色光阻层(40)，在所述彩色光阻层(40)的制程中同时形成遮光色阻叠层(50)，所述遮光色阻叠层(50)位于所述第一黑色矩阵(21)、第二黑色矩阵(22)及衬底基板(10)上且覆盖所述第一黑色矩阵(21)与第二黑色矩阵(22)的间隔区域；

所述遮光色阻叠层(50)包括位于所述第一黑色矩阵(21)、第二黑色矩阵(22)及衬底基板(10)上的第一遮光色阻层(51)以及位于所述第一遮光色阻层(51)上的第二遮光色阻层(52)，所述第一遮光色阻层(51)与第二遮光色阻层(52)的颜色不同；所述彩色光阻层(40)包括与所述第一遮光色阻层(51)的颜色相同的第一色阻单元(41)；所述第一遮光色阻层(51)的厚度小于所述第一色阻单元(41)的厚度。

2.如权利要求1所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述第一黑色矩阵(21)还包括位于框形遮光层(212)围出的区域内且与所述框形遮光层(212)的内侧相连的网格状遮光层(211)；所述框形遮光层(212)与网格状遮光层(211)在显示区(101)内围出多个子像素区(30)，所述多个子像素区(30)包括具有不同颜色的第一子像素区(31)、第二子像素区(32)、第三子像素区(33)；

所述彩色光阻层(40)包括位于第一子像素区(31)的第一色阻单元(41)、位于第二子像素区(32)的第二色阻单元(42)、位于第三子像素区(33)的第三色阻单元(43)；

所述第一遮光色阻层(51)与所述第一色阻单元(41)通过对同一色阻层进行光刻制程制得；所述第二遮光色阻层(52)与所述第二色阻单元(42)或第三色阻单元(43)通过对同一色阻层进行光刻制程制得。

3.如权利要求1所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述第一遮光色阻层(51)凸出于所述第一黑色矩阵(21)与第二黑色矩阵(22)上表面的部分的厚度小于2μm；或者，所述第一遮光色阻层(51)的上表面与所述第一黑色矩阵(21)和第二黑色矩阵(22)的上表面齐平。

4.如权利要求2所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述步骤2包括：

步骤21、在所述衬底基板(10)、第一黑色矩阵(21)、第二黑色矩阵(22)上涂布第一色阻材料，形成第一色阻层(81)，采用半色调光罩(60)对所述第一色阻层(81)进行曝光、显影后，得到位于第一子像素区(31)中的第一色阻单元(41)、位于所述第一黑色矩阵(21)、第二黑色矩阵(22)及衬底基板(10)上且覆盖所述第一黑色矩阵(21)与第二黑色矩阵(22)的间隔区域的第一遮光色阻层(51)；

步骤22、在所述第二子像素区(32)与第三子像素区(33)中分别形成第二色阻单元(42)与第三色阻单元(43)，在所述第二色阻单元(42)或第三色阻单元(43)的制程中同时形成第二遮光色阻层(52)。

5.如权利要求4所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述半色调光罩(60)上设有对应于第一子像素区(31)的第一区域(61)、对应于所述第一黑色矩阵(21)与第二黑色矩阵(22)的间隔区域的第二区域(62)、除所述第一区域(61)与第二区域(62)以外的第三区域(63)，其中，所述第二区域(62)的宽度大于所述第一黑色矩阵(21)与第二黑色矩阵(22)的间隔区域的宽度；

当所述第一色阻材料为正性光阻时，所述第一区域(61)、第二区域(62)、第三区域(63)的透光率依次增大；当所述第一色阻材料为负性光阻时，所述第一区域(61)、第二区域(62)、第三区域(63)的透光率依次减小。