[发明专利]一种荻和南荻的花期调控方法在审
| 申请号： | 201810106749.2 | 申请日： | 2018-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN108207619A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 董建芬 | 申请（专利权）人： | 董建芬 |
| 主分类号： | A01H1/02 | 分类号： | A01H1/02;A01G7/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 325612 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 南荻 生长 花期调控 智能温室 盆栽 植株 补光 杂交育种 自然光照条件 花期相遇 盆栽管理 植株生长 自然条件 出苗 调控 基部 去除 种间 | ||
【权利要求书】：
1.一种荻和南荻的花期调控方法，其特征是，盆栽荻和南荻于2月下旬至3月上旬出苗，从出苗第一天起放置在智能温室中，进行补光处理，然后在适当时间停止补光，移至自然光照条件下生长；补光处理为每天早晨4：00点钟开启光照设备进行补光，7：00点钟停止补光，然后植株在自然光照条件下生长；下午17：00点钟又重新开启光照设备，21：00点钟关闭光照设备，植株每天接受17小时的光照；荻和南荻停止补光的时间为5月1日、6月1日、7月1日、8月1日和9月1日。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征是，光照设备光源为钠灯，植株顶端的光照强度约为10000lx。
3.根据权利要求1所述的荻和南荻的花期调控方法，其特征是，将盆栽荻和南荻放置在智能温室中进行盆栽管理，待植株生长至适当时间时将生长的植株从基部完全去除，重新生长的植株仍然放置在原地使其在自然条件下生长。
4.根据权利要求3所述的荻和南荻的花期调控方法，其特征是，植株从基部完全去除的时间为5月1日、6月1日、7月1日、8月1日和9月1。
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