[发明专利]金刚石的金属化工艺在审

专利信息
申请号: 201810089366.9 申请日: 2018-01-30
公开(公告)号: CN108315723A 公开(公告)日: 2018-07-24
发明(设计)人: 李新宇;张学良;齐维滨;王宏 申请(专利权)人: 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司
主分类号: C23C18/32 分类号: C23C18/32
代理公司: 北京维澳专利代理有限公司 11252 代理人: 周放;逄京喜
地址: 100176 北京市大兴区北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 金刚石 金属化工艺 复合金属膜 工艺处理 焊接结构 金属 封接 预处理 表面金属化 电镀镍层 金属形成 溅射
【权利要求书】:

1.一种金刚石的金属化工艺,其特征在于,包括以下步骤:

对金刚石进行预处理;

在所述金刚石上溅射复合金属膜层;

在所述复合金属膜层上电镀镍层。

2.根据权利要求1所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,对金刚石进行预处理具体包括:

打磨所述金刚石的表面;

采用清洗剂超声波清洗所述金刚石。

3.根据权利要求2所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,采用清洗剂超声波清洗所述金刚石具体为:

采用频率为30kHZ-50kHZ的超声波,通过清洗剂持续清洗所述金刚石20min-30min。

4.根据权利要求1所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,在所述金刚石上溅射所述复合金属膜层具体包括:

将所述金刚石放置在镀膜机内;

在所述金刚石的表面由内至外依次溅射Ti膜层、阻挡层和浸润层。

5.根据权利要求4所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,在所述金刚石的表面由内至外依次溅射Ti膜层、阻挡层和浸润层具体包括:

在所述金刚石的表面溅射厚度为50nm-100nm的所述Ti膜层;

在所述Ti膜层表面溅射厚度为200nm-250nm的所述阻挡层;

在所述阻挡层表面溅射厚度为250nm-300nm的所述浸润层。

6.根据权利要求4所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,所述阻挡层为Mo膜层或Cu膜层或金膜层。

7.根据权利要求4所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,所述浸润层为Ni膜层。

8.根据权利要求4所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,所述Ti膜层、所述阻挡层和所述浸润层均呈圆环状。

9.根据权利要求8所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,所述Ti膜层、所述阻挡层和所述浸润层的圆环宽度为0.5mm-2mm。

10.根据权利要求1-9任一项所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,在所述复合金属膜层上电镀镍层具体为:

在所述复合金属膜层上电镀厚度为3μm-6μm的完全覆盖所述复合金属膜层的镍层。

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