[发明专利]金刚石的金属化工艺在审
| 申请号: | 201810089366.9 | 申请日: | 2018-01-30 |
| 公开(公告)号: | CN108315723A | 公开(公告)日: | 2018-07-24 |
| 发明(设计)人: | 李新宇;张学良;齐维滨;王宏 | 申请(专利权)人: | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C18/32 | 分类号: | C23C18/32 |
| 代理公司: | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人: | 周放;逄京喜 |
| 地址: | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 金刚石 金属化工艺 复合金属膜 工艺处理 焊接结构 金属 封接 预处理 表面金属化 电镀镍层 金属形成 溅射 | ||
1.一种金刚石的金属化工艺,其特征在于,包括以下步骤:
对金刚石进行预处理;
在所述金刚石上溅射复合金属膜层;
在所述复合金属膜层上电镀镍层。
2.根据权利要求1所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,对金刚石进行预处理具体包括:
打磨所述金刚石的表面;
采用清洗剂超声波清洗所述金刚石。
3.根据权利要求2所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,采用清洗剂超声波清洗所述金刚石具体为:
采用频率为30kHZ-50kHZ的超声波,通过清洗剂持续清洗所述金刚石20min-30min。
4.根据权利要求1所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,在所述金刚石上溅射所述复合金属膜层具体包括:
将所述金刚石放置在镀膜机内;
在所述金刚石的表面由内至外依次溅射Ti膜层、阻挡层和浸润层。
5.根据权利要求4所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,在所述金刚石的表面由内至外依次溅射Ti膜层、阻挡层和浸润层具体包括:
在所述金刚石的表面溅射厚度为50nm-100nm的所述Ti膜层;
在所述Ti膜层表面溅射厚度为200nm-250nm的所述阻挡层;
在所述阻挡层表面溅射厚度为250nm-300nm的所述浸润层。
6.根据权利要求4所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,所述阻挡层为Mo膜层或Cu膜层或金膜层。
7.根据权利要求4所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,所述浸润层为Ni膜层。
8.根据权利要求4所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,所述Ti膜层、所述阻挡层和所述浸润层均呈圆环状。
9.根据权利要求8所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,所述Ti膜层、所述阻挡层和所述浸润层的圆环宽度为0.5mm-2mm。
10.根据权利要求1-9任一项所述的金刚石的金属化工艺,其特征在于,在所述复合金属膜层上电镀镍层具体为:
在所述复合金属膜层上电镀厚度为3μm-6μm的完全覆盖所述复合金属膜层的镍层。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理





