[发明专利]基板处理装置、其控制方法及计算机可读存储介质

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

喷嘴，其向基板排出处理液；

配管部，其形成连接至所述喷嘴的所述处理液的流路；

多个阀，其设置于所述配管部的途中部分，改变所述配管部和所述喷嘴中的所述处理液的存在状态；

发动部，其给予所述多个阀使所述多个阀进行动作的驱动力；

控制部，其输出触发信号来通过所述发动部使所述多个阀进行动作；以及

检测部，其检测特定状态，

所述多个阀包括：

排出阀，其设置于所述配管部的途中部分，开闭对所述喷嘴供给所述处理液的液体供给路径；以及

回吸阀，其设置于所述配管部中的所述排出阀与所述喷嘴之间的特定部分或从该特定部分分支的分支配管部分，进行至少回吸所述喷嘴中的所述处理液的液体回吸动作，

所述特定状态包括：所述配管部内的所述处理液的存在或流动或者所述回吸阀的动作所涉及的特定的状态，

所述控制部根据从输出所述触发信号的第一定时至所述检测部检测到所述特定状态的第二定时的所述回吸阀的实际动作时间与预先设定的基准动作时间的关系，计算所述发动部所引起的所述回吸阀的动作的动作速度所涉及的设定的变更量。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述特定状态包括：所述回吸阀的部分区域的气压到达基准压的基准压到达状态。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述特定状态包括：所述回吸阀的开度所涉及的特定开度状态、所述处理液的液面到达所述分支配管部分的特定位置的特定回吸状态、或所述分支配管部分的特定位置的所述处理液的流速到达特定流速的状态。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述控制部根据所述变更量变更所述发动部所引起的所述回吸阀的动作的所述动作速度所涉及的设定。

5.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述发动部响应于所述控制部所进行的所述触发信号的输出，开始关闭所述排出阀的关闭动作和所述回吸阀所进行的所述液体回吸动作。

6.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述发动部响应于所述控制部所进行的所述触发信号的输出，开始关闭所述排出阀的关闭动作和所述回吸阀所进行的所述液体回吸动作，

所述回吸阀具有：

阀箱部，其形成与所述配管部内的所述液体供给路径连通的液体回吸区域；

阀体部，其面向所述液体回吸区域且以能够变更该液体回吸区域的容积的方式进行动作；以及

驱动机构，其使所述阀体部进行动作，

所述驱动机构具有：

容器部；

分隔部，其将所述容器部内的空间分隔为第一区域和第二区域；以及

连结部，其连结所述分隔部和所述阀体部，

所述发动部向所述第一区域供给气体来使所述分隔部进行动作，由此，经由所述连结部以所述液体回吸区域的容积缩小的方式使所述阀体部进行动作，并且使气体从所述第一区域排出来使所述分隔部进行动作，由此，经由所述连结部以所述液体回吸区域的容积扩大的方式使所述阀体部进行动作，使所述回吸阀执行所述液体回吸动作，

所述控制部输出所述触发信号来通过所述发动部开始从所述第一区域排出气体，

所述部分区域包括所述第一区域，

所述动作速度所涉及的设定包括调整所述发动部所引起的来自所述第一区域的气体排出的速度的设定。

7.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述发动部响应于所述控制部所进行的所述触发信号的输出，开始关闭所述排出阀的关闭动作和所述回吸阀所进行的所述液体回吸动作，

所述回吸阀设置于所述特定部分或所述分支配管部分的途中部分，对回吸存在于所述喷嘴和所述配管部中的从所述喷嘴至所述排出阀的区域的所述处理液的液体回吸路径进行开闭，

所述动作速度包括由所述回吸阀开放所述液体回吸路径的速度。