[发明专利]有机电致发光显示面板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种有机电致发光显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

制作显示基板，所述显示基板包括显示区和位于所述显示区至少一侧的边框区，所述边框区包括外边框子区和内边框子区，所述内边框子区位于所述外边框子区与所述显示区之间；

形成有机保护层，该有机保护层至少覆盖所述外边框子区；

在形成有所述有机保护层的显示基板上形成封装层，以使得所述有机保护层位于所述封装层与所述显示基板之间；所述封装层位于所述外边框子区的部分采用无机材料制成；

对所述封装层位于所述外边框子区的部分进行刻蚀；

其中，所述显示基板的显示区的三侧均设置有所述边框区，所述显示区的其余一侧设置有待弯折区，所述有机保护层还覆盖所述待弯折区，且所述有机保护层位于所述显示区之外；所述边框区的有机保护层的厚度小于所述待弯折区的有机保护层的厚度；所述待弯折区的有机保护层的厚度在之间，所述边框区的有机保护层的厚度在之间。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，形成封装层包括；

形成第一无机层，所述第一无机层覆盖所述显示区和所述边框区；

在所述第一无机层背离所述显示基板的一侧形成有机层，所述有机层覆盖所述显示区且位于所述外边框子区之外；

在所述有机层背离所述显示基板的一侧形成第二无机层，所述第二无机层覆盖所述显示区和所述边框区。

3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述边框区的有机保护层的厚度在之间。

4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，形成有机保护层包括：

形成感光的有机材料层；

利用掩膜板对所述有机材料层进行阶梯曝光并显影，以使显示区的有机材料层被去除、所述边框区和所述待弯折区的有机材料层保留，且所述边框区的有机材料层的厚度小于所述待弯折区的有机材料层的厚度。

5.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，制成所述有机保护层的材料包括聚酰亚胺。

6.一种有机电致发光显示面板，其特征在于，包括显示基板以及设置在显示基板上的封装层和有机保护层，

所述显示基板包括显示区和位于所述显示区至少一侧的边框区，所述边框区包括外边框子区和内边框子区，所述内边框子区位于所述外边框子区与所述显示区之间；

所述封装层至少覆盖所述显示区，且位于所述外边框子区之外；

所述有机保护层至少覆盖所述外边框子区，所述有机保护层位于所述封装层朝向所述显示基板的一侧；

其中，所述显示基板的显示区的三侧均设置有所述边框区，所述显示区的其余一侧设置有待弯折区，所述有机保护层还覆盖所述待弯折区，且所述有机保护层位于所述显示区之外；所述边框区的有机保护层的厚度小于所述待弯折区的有机保护层的厚度；所述待弯折区的有机保护层的厚度在之间，所述边框区的有机保护层的厚度在之间。

7.根据权利要求6所述的有机电致发光显示面板，其特征在于，

制成所述有机保护层的材料包括聚酰亚胺。

8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求6或7所述的有机电致发光显示面板。