[发明专利]发热体以及真空热处理装置在审

专利信息
申请号: 201780080387.8 申请日: 2017-09-20
公开(公告)号: CN110100499A 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 胜俣和彦 申请(专利权)人: 株式会社IHI;IHI机械系统股份有限公司
主分类号: H05B3/02 分类号: H05B3/02;C21D1/773;F27D11/02;H05B3/06;H05B3/64
代理公司: 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 代理人: 杨楷;毛立群
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电气加热器 发热体 真空热处理装置 导电性连接器 被处理物 真空气氛 接合 地连接 加热 紧贴 收容 配置
【说明书】:

该发热体(10)为配置于收容在真空热处理装置(S1)的被处理物(W)的周围且在真空气氛下对被处理物进行加热的发热体,具备:多个电气加热器(18);与将该多个电气加热器相互地连接的导电性连接器(c4),电气加热器与导电性连接器相互紧贴地接合。

技术领域

本公开内容涉及发热体以及真空热处理装置。

本申请基于2017年1月18日在日本申请的特愿2017-006901号主张优先权,并在此引用其内容。

背景技术

例如,在专利文献1中,公开有能够在真空状态下对被处理物尽可能均匀地进行加热的真空炉。在这样的真空炉中,对炉内进行加热的加热器(发热体)分割为上部加热器与下部加热器,进而通过将上部加热器分割为前部空间(zone)、后部空间、前部空间与后部空间之间的中间部空间从而进行控制,划分为热量容易逃逸的区域与热量难以逃逸的区域从而进行控制,降低炉内温度的不均。

在专利文献2中,公开有渗碳处理装置以及方法。

在专利文献3中,公开有真空渗碳处理方法以及真空渗碳处理装置。

在专利文献4中,公开有电气加热炉用加热装置。

在专利文献5中,公开有真空炉。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开平5-271751号公报

专利文献2:日本特开2007-84870号公报

专利文献3:日本特开2008-81781号公报

专利文献4:日本实开昭61-76693号公报

专利文献5:日本特开2001-255073号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

如专利文献1所公开的那样,真空炉的发热体通过将多个加热器在结构上连接并且电气地连接,形成包围被处理物的大致筒状的加热区域(加热部)。由于将加热器彼此电气地连接,所以存在使用导电性连接器的情况。在该情况下,若在加热器与导电性连接器的接触面产生电阻,则有可能会因该电阻而损失能量,从而加热器未按照设计发热,不能均匀地加热被处理物。然而,在这样的专利文献1中的真空炉中,对于加热器与导电性连接器的接合方法,未进行任何公开或者教导。

本公开内容鉴于上述问题点而完成,目的在于使发热体按照设计发热,从而均匀地加热被处理物。

用于解决技术问题的方案

为了解决上述技术问题,本公开内容的一方案为配置于收容在真空热处理装置的被处理物的周围且在真空气氛下对上述被处理物进行加热的发热体,其具备多个电气加热器与将该多个电气加热器相互连接的导电性连接器,上述电气加热器与上述导电性连接器互相紧贴地接合。

发明效果

根据本公开内容的一方案,发热体所具备的多个电气加热器与导电性连接器以紧贴的状态连接。由此,能够增大电气加热器与导电性连接器的接触面积,能够减少电气加热器与导电性连接器的连接部的电阻。因此,能够按照设计使发热体发热,从而均匀地加热被处理物。

附图说明

图1是示出本公开内容一实施方式的具备发热体的真空热处理装置的概略构成的剖视图。

图2是本公开内容一实施方式的具备发热体的加热器的立体图。

图3是示意性示出本公开内容一实施方式的具备发热体的真空热处理装置的隔热室的放大剖视图。

图4是示出本公开内容一实施方式中的温度调整系统的功能构成的方框图。

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