[发明专利]弹性波装置有效

专利信息
申请号: 201780071170.0 申请日: 2017-10-10
公开(公告)号: CN110036564B 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 大门克也;玉崎大辅 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H03H9/25 分类号: H03H9/25;H03H9/145
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 朴云龙
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 弹性 装置
【权利要求书】:

1.一种弹性波装置,具备:

压电基板,由LiNbO3构成;

IDT电极,设置在所述压电基板上;以及

第一电介质膜,设置在所述压电基板上,使得覆盖所述IDT电极,且由氧化硅构成,

所述IDT电极具有由Pt、Cu以及Mo中的一种金属构成的第一金属膜,

所述压电基板的欧拉角为欧拉角(0°±5°,-90°≤θ≤-27.5°,0°±5°),

将由所述IDT电极的电极指间距规定的波长设为λ,将通过所述波长λ进行了归一化的所述第一金属膜的膜厚设为hm/λ,将通过所述波长λ进行了归一化的所述第一电介质膜的膜厚设为hs/λ,其中,所述膜厚hm/λ以及所述膜厚hs/λ的单位为%,此时,所述第一金属膜的金属、所述膜厚hm/λ、所述膜厚hs/λ以及所述压电基板的欧拉角中的θ为下述的表2~表9所示的任一组合,

[表2]

[表3]

[表4]

[表5]

[表6]

[表7]

[表8]

[表9]

2.根据权利要求1所述的弹性波装置,其中,

在所述第一电介质膜上设置有第二电介质膜。

3.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,

利用了SH波。

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