[发明专利]制造改良聚酰亚胺分离膜的方法

权利要求书

1.具有2到5个碳的烃中的至少一种用于在氢气渗透率无任何实质性降低的情况下改善含卤素聚酰亚胺膜的氢气选择性的用途，所述用途包含：

（i）提供由聚酰亚胺、可溶于所述聚酰亚胺中的含卤素化合物和溶剂构成的铸膜溶液，使得至少0.5%的卤素化合物可溶于所述聚酰亚胺中，或使得所述含卤素聚酰亚胺膜具有均匀地处于所述含卤素聚酰亚胺膜内的卤素；

（ii）使所述铸膜溶液成形以形成初始成形膜；

（iii）从所述初始成形膜中去除溶剂以形成未处理的聚酰亚胺膜；和

（iv）将所述未处理的聚酰亚胺膜暴露于包含具有2到5个碳的烃中的至少一种的处理气氛一段时间以形成所述含卤素聚酰亚胺膜，其中所述暴露达至少4小时到4天的时间，

其中所述卤素化合物是芳香族环氧化物。

2.根据权利要求1所述的用途，其中处理气体进一步包含氢气。

3.根据权利要求2所述的用途，其中所述烃为烯烃。

4.根据权利要求1或权利要求2所述的用途，其中所述烃为乙烷、乙烯、丙烷、丙烯、丁烷、丁烯或其混合物。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的用途，其中所述处理气氛由至少99%的所述烃构成。

6.根据权利要求1所述的用途，其中所述卤素为溴。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的用途，其中所述暴露达2天到4天的时间。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的用途，其中所述芳香族环氧化物为具有至少一个下式的卤素取代基的低聚或聚合残余物：

其中Ar表示以下形式的二价芳香族基团：

、、、或

其中R₁为直接键或以下二价基团中的任一个：

、、、、、、、或

，其中Ar被至少一个卤素取代。

9.根据权利要求8所述的用途，其中所有所述卤素均为Br。

10.根据权利要求9所述的用途，其中Ar的每个芳香环被与缩水甘油醚基邻位的卤素取代。

11.根据权利要求8所述的用途，其中所述聚酰亚胺为3,3',4,4'-苯并-苯基酮四甲酸二酐和5(6)-氨基-1-(4'-氨基苯基)-1,3,3-三甲基茚满的共聚物；或由以下表示的以下聚酰亚胺中的一种：

或

。