[发明专利]用于使基板同时旋转和悬浮的非接触式基板载体

权利要求书

1.一种用于在基板（130）的沉积和/或蚀刻期间使所述基板（130）同时旋转和悬浮的系统（100；200；300；310；330），所述基板（130）具有底表面和顶表面，其中，所述系统（100）包括：

加热器（301、302；302、312），所述加热器被构造成将热施加到所述基板（130）的底表面和施加到所述基板（130）的顶表面，所述加热器（301、302；302、312）包括位于所述基板（130）下方的载体（110），其中，所述载体（110）包括至少三个气体入口（111）以向所述基板的底表面提供气体，以使所述基板（130）悬浮在所述载体（110）上方并且以同时使所述基板（130）旋转；以及

至少一个保持构件（120；121；401至406），所述保持构件连接到所述载体（110）并且被构造成限制所述基板（130）的水平漂移。

2.根据权利要求1所述的系统（100；200；300；310；330），其中，所述气体入口（111）相对于垂直于所述基板（130）的底表面的矢量倾斜，其中，所述倾斜的气体入口（111）的倾斜角度（φ）优选地在2°和60°之间，更优选地在5°和50°之间，甚至更优选地在10°和45°之间。

3.根据权利要求1或2所述的系统（100；200；300；310；330），其中，所述至少一个保持构件（120；121；401至406）包括位于所述载体（110）处的单个保持构件（120），使得所述保持构件（120）在所述基板的中心位置处与所述基板（130）接合，或者其中，所述至少一个保持构件（120；121；401至406）包括位于所述载体处的至少三个保持构件（121），使得所述三个保持构件（121）在所述基板的边缘区域处限制所述基板（130）的水平移动。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的系统（100；200；300；310；330），其中，所述至少一个保持构件（120；121；401至406）包括销，所述销优选地具有朝向所述载体（110）增加的直径。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的系统（100；200；300；310；330），其中，所述载体（110）的面向所述基板（130）的上表面具有至多0.1 mm的表面平坦度。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的系统（100；200；300；310；330），其中，所述至少三个气体入口（111）被形成为通过所述载体（110）的孔或空心销。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的系统（100；200；300；310；330），其中，所述至少三个气体入口（111）中的每个距所述载体（110）的中心之间的距离大于所述基板（130）的半径的30％，优选地大于所述基板（130）的半径的50％，更优选地大于所述基板（130）的半径的70％。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的系统（100；200；300；310；330），其中，所述至少一个保持构件（120、121）进一步包括旋转速度传感器和/或位置传感器，以测量所述基板的旋转和/或位置。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的系统（100；200；300；310；330），其中，所述加热器（301、302；302、312）包括：第一加热单元（302），所述第一加热单元被提供在所述基板（130）的底表面下方；以及第二加热单元（301；312），所述第二加热单元被提供在所述基板（130）的顶表面上方，其中，所述第一加热单元包括所述载体（100）。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的系统（100；200；300；310；330），其中，所述系统适于使所述基板（130）以在60 rpm和2000 rpm之间的旋转速度旋转。